[分享]基本薄膜材料介紹 [復(fù)制鏈接]

名稱：釔（Y） rE)lt0m
kv  
三氧化二釔，（Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時(shí)折射率約為1.8.用作鋁保護(hù)膜其極受歡迎,特別相對(duì)于800—12000nm區(qū)域高入射角而言,可用作眼鏡保護(hù)膜,且24小時(shí)暴露于濕氣中.一般為顆粒狀和片狀. yy8h8{=g  
透光范圍(nm) 折射率(N)500nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 蒸氣成分 k  <SFl  
250--8000 1．79 2300--2500 電子槍 防反膜，鋁保護(hù)膜 WKek^TW4HE  
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名稱：二氧化鈰（CeO2） :(ni/,~Q  
使用高密度的鎢舟皿(較早使用)蒸發(fā),在200℃的基板上蒸著二氧化鈰,得到一個(gè)約為2.2的折射率,在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發(fā)生顯著變化,在300℃基板500nm區(qū)域折射率為2.45,在波長(zhǎng)短過400nm時(shí)有吸收,傳統(tǒng)方法蒸發(fā)缺乏緊密性,用氧離子助鍍可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般為顆粒狀,還可用一增透膜和濾光片等. [M?'Nw/[S  
透光范圍(nm) 折射率(N)500nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量 [TRHcz n  
400--16000 2.35 約2000 電子槍 防反膜， 多 ai