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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2008-07-16
    名稱:釔(Y) g}j>;T  
    三氧化二釔,(Y2O3)使用電子槍蒸鍍,該材料性能隨膜厚而變化,在500nm時折射率約為1.8.用作鋁保護膜其極受歡迎,特別相對于800—12000nm區(qū)域高入射角而言,可用作眼鏡保護膜,且24小時暴露于濕氣中.一般為顆粒狀和片狀. I8>1RXz  
    透光范圍(nm) 折射率(N)500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 蒸氣成分 -Af`AX  
    250--8000 1.79 2300--2500 電子槍 防反膜,鋁保護膜 XD>@EYN<X  
    ^/YAokj  
    名稱:二氧化鈰(CeO2) MX_a]$\ :n  
    使用高密度的鎢舟皿(較早使用)蒸發(fā),在200℃的基板上蒸著二氧化鈰,得到一個約為2.2的折射率,在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發(fā)生顯著變化,在300℃基板500nm區(qū)域折射率為2.45,在波長短過400nm時有吸收,傳統(tǒng)方法蒸發(fā)缺乏緊密性,用氧離子助鍍可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般為顆粒狀,還可用一增透膜和濾光片等. f6C+2L+Hr  
    透光范圍(nm) 折射率(N)500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量 ,Yt&PE  
    400--16000 2.35 約2000 電子槍 防反膜, 多 r?>Hg+  
    *==nOO9G  
    名稱:氧化鎂(MgO) 8LKZ3Y|  
    必須使用電子槍蒸發(fā)因該材料升華,堅硬耐久且有良好的紫外線(UV)穿透性,250nm時n=1.86, 190nm時n=2.06.    166nm時K值為0.1, n=2.65.可用作紫外線薄膜材料.MGO/MGF2膜堆從200nm---400nm區(qū)域透過性良好,但膜層被限制在60層以內(nèi)(由于膜應(yīng)力)500nm時環(huán)境基板上得到n=1.70.由于大氣CO2的干擾,MGO暴露表面形成一模糊的淺藍(lán)的散射表層,可成功使用傳統(tǒng)的MHL折射率3層AR膜(MgO/CeO2/MgF2). Hx0,kOh)  
    3&2q\]Y,  
    名稱:硫化鋅(ZnS) ?uBC{KQ}Y  
    折射率為2.35,  400—13000nm的透光范圍,具有良好的應(yīng)力和良好的環(huán)境耐久性, ZnS在高溫蒸著時極易升華,這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層,因此需要徹底清爐,并且在最高溫度下烘干,花數(shù)小時才能把鋅的不良效果消除.HASS等人稱紫外線(UV)對ZNS有較大的影響,由于紫外線在大氣中導(dǎo)致15—20nm厚的硫化鋅膜層完全轉(zhuǎn)變成氧化鋅(ZNO). 5gEWLLDp  
       4hz,F/ I  
    透光范圍(nm) 折射率(N)550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 方式 ~ZC=!|Q#  
    400--14000 2.35 1000--1100 電子槍,鉭鉬舟 防反膜, 升華 DKCy h`  
    應(yīng)有:分光膜,冷光膜,裝飾膜,濾光片,高反膜,紅外膜. @_nhA/rlc  
    ];]EK6dzG  
    名稱:二氧化鈦(TIO2) :!\./z8v  
    TIO2由于它的高折射率和相對堅固性,人們喜歡把這種高折射率材料用于可見光和近紅外線區(qū)域,但是它本身又難以得到一個穩(wěn)定的結(jié)果.TIO2, TI2O3. TIO, TI ,這些原材料氧—鈦原子的模擬比率分別為:2.0, 1.67, 1.5, 1.0, 0. 后發(fā)現(xiàn)比率為1.67的材料比較穩(wěn)定并且大約在550nm生成一個重復(fù)性折射率為2.21的堅固的膜層,比率為2的材料第一層產(chǎn)生一個大約2.06的折射率,后面的膜層折射率接近于2.21.比率為1.0的材料需要7個膜層將折射率2.38降到2.21.這幾種膜料都無吸收性,幾乎每一個TIO2蒸著遵循一個原則:在可使用的光譜區(qū)內(nèi)取得可以忽略的吸收性,這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制.TIO2需要使用IAD助鍍,氧氣輸入口在擋板下面. $B/cj^3  
    n-.k&B{a  
    TI3O5比其它類型的氧化物貴一些,可是很多人認(rèn)為這種材料不穩(wěn)定性的風(fēng)險要小一些,PULKER等人指出,最后的折射率與無吸收性是隨著氧氣壓力和蒸著溫度而改變的,基板溫度高則得到高的折射率.例如,基板板溫度為400℃時在550納米波長得到的折射率為2.63,可是由于別的原因,高溫蒸著通常是不受歡迎的,而離子助鍍已成為一個普遍采用的方法其在低溫甚至在室溫時就可以得到比較高的折射,通常需要提供足夠的氧氣以避免(因為有吸收則降低透過率),但是可能也需要降低吸收而增大鐳射損壞臨界值(LDT).TIO2的折射率與真空度和蒸發(fā)速度有很大的關(guān)系,但是經(jīng)過充分預(yù)熔和IAD助鍍可以解決這一難題,所以在可見光和近紅外線光譜中,TIO2很受到人們的歡迎. ]TOY_K8"z#  
    D:,<9