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    [求助]關(guān)于沉積速率調(diào)整的一個問題 [復(fù)制鏈接]

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    離線oudexu
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2009-01-06
    請教大家一個問題 63WS7s"  
    假如要降低鍍膜的沉積速度，把靶基距調(diào)大或減小靶的濺射率，它們的效果一樣嗎？比如鍍出來的膜的折射率，消光系數(shù)，薄膜的晶體結(jié)構(gòu)等有什么差別嗎？ m}j:nk  
    機器：離子濺射  
     
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    離線timberwolf
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2009-03-25
    當然不一樣。膜層的附著力、應(yīng)力和均勻性都效果不同。就看你的要求了。
    離線renlgj
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 08-22
    跟著學(xué)習了