1.紫外線表面清洗
t/PlcV_M" gOK\%&S] 紫外線表面清洗是近年來(lái)新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒(méi)有污水，污氣產(chǎn)生。是高能環(huán)保型清洗殺菌方法。廣泛運(yùn)用于
LCD,PCB，點(diǎn)子，印刷，塑膠，
玻璃，涂裝等領(lǐng)域。
ed_ FiQd 3 Lsj}p 紫外線清洗是是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除附著在
材料表面的有機(jī)物質(zhì)。經(jīng)過(guò)廣清洗后的材料表面可以達(dá)到高清潔度。
D\YE^8/ 5rV( ( 其主要
原理為紫外線燈發(fā)出的 185nm波長(zhǎng)和254nm波長(zhǎng)具有很高的能量，高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長(zhǎng)后分解成例子，流利態(tài)院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用�？諝庵械难醴肿釉谖樟�185nm波長(zhǎng)的紫外光后，會(huì)產(chǎn)生臭氧和氧氣，臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)具有很強(qiáng)的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強(qiáng)的氧化性，可以將碳?xì)浠湘I切斷，生成水，二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底清除物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。
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