近日，完成了成像和非成像方面完整的
雜散光實(shí)例分析，并總結(jié)如下。下文僅是一家之言，僅供大家參考。謝絕轉(zhuǎn)載。
x2 |6 %>Xr5<$:& 雜散光（Stray light）是
光學(xué)系統(tǒng)中不受歡迎的
光線。成像系統(tǒng)和非成像系統(tǒng)都存在雜散光問題，甚至人眼都有這個(gè)問題。
r0m)j ( g :p5Rl 雜散光主要表現(xiàn)形式有：
4a ZCFdc 鬼像（Ghost）：由光學(xué)表面的多次反射光形成。
?3sT" r_d@ 散射光線。來源自光學(xué)元件，機(jī)械表面（主要來源）：
鏡頭外殼，固定支架，遮光罩，攔光擋片等。
t0PQ~|H<KV 遮光罩使用不當(dāng)出現(xiàn)的漏光。
Ni[4OR$- O "C%!8`K{a* 雜散光的其它來源：
Kn+=lCk 衍射：由遮光罩邊緣引起的衍射；另外，由于衍射元件通常只處理一階衍射，其余階就成為雜散光的來源了。Lyout光欄是天文望遠(yuǎn)鏡中消除衍射效應(yīng)的典型器件。
yeD_j/ rlok%Rt4Z 熱效應(yīng)：探測(cè)器因環(huán)境因素，或機(jī)械結(jié)構(gòu)和系統(tǒng)硬件引起的熱效應(yīng)而產(chǎn)生雜散信號(hào)。
P# GD?FUc 7x. %hRk 雜光（Veiling Glare）是到達(dá)成像系統(tǒng)傳感器的雜散光，會(huì)導(dǎo)致成像系統(tǒng)性能的衰減。雜光主要有兩種成分：散射光和鬼像。一次反射鬼像影響最大的是高功率
激光系統(tǒng)，二次反射鬼像主要影響成像系統(tǒng)和紅外系統(tǒng)。鬼像又分鬼像焦點(diǎn)像（ghost focus images）和鬼像光瞳像（Ghost pupil images）。前者是由物面形成的，后者由光瞳形成的。由于光瞳是系統(tǒng)全視場(chǎng)能量積分處，所以其影響可能也會(huì)很大。對(duì)于高功率激光系統(tǒng)而言，除了要避免成像光路形成的內(nèi)焦點(diǎn)，還要避免鬼像光路形成的鬼像內(nèi)焦點(diǎn)。
@kngI7=E
