近日，完成了成像和非成像方面完整的
雜散光實(shí)例分析，并總結(jié)如下。下文僅是一家之言，僅供大家參考。謝絕轉(zhuǎn)載。
;+86 q"&n h'QEwW 雜散光（Stray light）是
光學(xué)系統(tǒng)中不受歡迎的
光線。成像系統(tǒng)和非成像系統(tǒng)都存在雜散光問題，甚至人眼都有這個(gè)問題。
5 e P0W# P#gY-k&Nr 雜散光主要表現(xiàn)形式有：
0j'H5>m" 鬼像（Ghost）：由光學(xué)表面的多次反射光形成。
8w 2$H 散射光線。來源自光學(xué)元件，機(jī)械表面（主要來源）：
鏡頭外殼，固定支架，遮光罩，攔光擋片等。
IJ#G/<ZJZ 遮光罩使用不當(dāng)出現(xiàn)的漏光。
|._9;T-Yde 0=WZ 8|R 雜散光的其它來源：
%.NOQ<@W 衍射：由遮光罩邊緣引起的衍射；另外，由于衍射元件通常只處理一階衍射，其余階就成為雜散光的來源了。Lyout光欄是天文望遠(yuǎn)鏡中消除衍射效應(yīng)的典型器件。
])v,zp"u 5.]eF$x2 熱效應(yīng)：探測(cè)器因環(huán)境因素，或機(jī)械結(jié)構(gòu)和系統(tǒng)硬件引起的熱效應(yīng)而產(chǎn)生雜散信號(hào)。
('9LUFw\ -GqMis}c 雜光（Veiling Glare）是到達(dá)成像系統(tǒng)傳感器的雜散光，會(huì)導(dǎo)致成像系統(tǒng)性能的衰減。雜光主要有兩種成分：散射光和鬼像。一次反射鬼像影響最大的是高功率
激光系統(tǒng)，二次反射鬼像主要影響成像系統(tǒng)和紅外系統(tǒng)。鬼像又分鬼像焦點(diǎn)像（ghost focus images）和鬼像光瞳像（Ghost pupil images）。前者是由物面形成的，后者由光瞳形成的。由于光瞳是系統(tǒng)全視場(chǎng)能量積分處，所以其影響可能也會(huì)很大。對(duì)于高功率激光系統(tǒng)而言，除了要避免成像光路形成的內(nèi)焦點(diǎn)，還要避免鬼像光路形成的鬼像內(nèi)焦點(diǎn)。
Q&JnF`* TB oN8cB} 鬼像分析可分為軸上點(diǎn)近軸光路分析和
照明方式的分析。前者就是用成像
軟件進(jìn)行鬼像光路分析完成。照明方式分析，實(shí)際就是采用商用照明軟件所使用的“二叉樹”（分裂光線）方法完成。一般而言，應(yīng)用成像軟件進(jìn)行鬼像光路分析，還可以優(yōu)化
光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，比如：
ZEMAX、CODE V；照明可以完成雜光系數(shù)分析，當(dāng)然，有一些照明軟件也可以優(yōu)化機(jī)械結(jié)構(gòu)，比如LT、ASAP。
J|'e.1v _0razNk 幾種消雜光的辦法如下：
J)148/ "OdR"M(G\ 1、更改光學(xué)類型，優(yōu)化系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，或優(yōu)化機(jī)械結(jié)構(gòu)
KS9 e V 2、增加消雜光光欄
vX9B^W||x 3、用螺紋消雜光
5O7 x4bY 4、對(duì)鏡筒內(nèi)壁采用無(wú)光發(fā)黑氧化，或者噴無(wú)光漆，或貼消光絨毛。
Boi?Bt 5、對(duì)產(chǎn)生嚴(yán)重鬼像的光學(xué)面鍍?cè)鐾改ぁ?span style="display:none"> |aaoi4OJ
6、使用合理的遮光罩
31FQ=(K 7、
透鏡鏡片邊緣涂黑處理
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