磁控濺射不同厚度銀膜的微結(jié)構(gòu)及其光學常數(shù) w&p+mJL.
>HP
`B2Q
H
用直流濺射法在室溫 (’ 玻璃基底上制備了 $)!*+—#",)!*+ 范圍內(nèi)不同厚度的 -. 薄膜, 并用 / 射線衍射及計算機輔助優(yōu)化程序對薄膜的微結(jié)構(gòu)和光學常數(shù)進行了測試分析0 結(jié)構(gòu)分析表明: 制備的 -. 薄膜均呈多晶狀態(tài),晶體結(jié)構(gòu)均呈面心立方; 隨著膜厚的增加, 薄膜的平均晶粒尺寸逐漸增大, 晶面間距逐漸減小0 計算機輔助優(yōu)化編程計算的薄膜光學常數(shù)分析表明: 在波長 %%"*+ 處, 當膜厚小于 #,)%*+ 時, 隨著膜厚的增加, 折射率 快速減小,消光系數(shù) 則快速增大; 當膜厚大于 #,)%*+ 時, 和 逐漸趨于穩(wěn)定 )U@9dV7u
N~v6K}`}
關(guān)鍵詞:直流濺射鍍膜,銀膜,微結(jié)構(gòu),光學常數(shù)