中頻非平衡磁控濺射制備 Ti-N-C膜摘要：采用霍爾離子源輔助中頻非平衡磁控濺射技術(shù)，通過改變工作氣氛、 偏壓模式、 濺射電流以及輔助離子束電流，在不銹鋼材料基體上制備了 Ti/ TiN/ Ti (C ,N) 硬質(zhì)耐磨損膜層。對(duì)薄膜的顏色、 晶體結(jié)構(gòu)、 膜基結(jié)合力等性能進(jìn)行了檢測(cè)分析。 結(jié)果表明:膜層的顏色對(duì)工作氣氛非常敏感，反應(yīng)濺射中工作氣氛的微小變化會(huì)引起表面膜層顏色很大的變化，在正常的反應(yīng)氣體進(jìn)氣量范圍內(nèi)和較小的基體偏壓下 ，薄膜的晶體結(jié)構(gòu)沒有明顯的擇優(yōu)取向，但是反應(yīng)氣體的過量通入會(huì)使薄膜的晶體結(jié)構(gòu)出現(xiàn)晶面擇優(yōu)取向趨勢(shì)，非平衡磁控濺射成膜技術(shù)對(duì)薄膜晶體結(jié)構(gòu)的擇優(yōu)取向影響并不是很大，在鍍膜過程中施加霍爾電流，可以有效地增加膜基結(jié)合力。 )=~OP>7B
0j}!4D+
關(guān)鍵詞：Ti2N2C薄膜；非平衡磁控濺射；中頻濺射靶；晶體結(jié)構(gòu)；離子束輔助沉積
