用lighttools做個背光源，要求雙面出均勻光，布點時候直接用BPO布點了，發(fā)現(xiàn)雙面布點沒法加入初始位移，使得兩面點大小相同密度相同但錯開一個點位 S&-K! XyJ
正反兩面都用hexagonal分布圓點，反射和透過都寫50%，split ray，問BPO能否在不移動我初始布好的點位置情況下僅優(yōu)化點大�。� xVm-4gB
目前是希望BPO在我設(shè)定的固定點位置上優(yōu)化大小不希望他動到點的位置，這樣怎么處理？ qLN\% }69/
求高手 Y % JQ
另外同時優(yōu)化雙面出光斑時能不能把兩個評估函數(shù)整合到一起，優(yōu)化每一面的光板都對兩面的綜合情況進行優(yōu)化？ %**f`L%jN
求高手啊~
