[求助]晶體端面損傷 [復(fù)制鏈接]

各路神仙： @m
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我遇到一難題，在高溫（60°）的情況下動態(tài)激光（主動調(diào)Q）晶體端面都出現(xiàn)損傷，而且出現(xiàn)時間很快（打光17S,歇10s,循環(huán)8次后；間隔1小時測一次，4小時后就出現(xiàn)了端面損傷的問題），能量80mj,脈寬10ns,波長1064nm；一開始說是污染問題，我們就做靜態(tài)的試驗，不管怎么做，就是不出現(xiàn)問題,

烘烤和清洗都做了，而且還不止一次，動態(tài)下還是有，郁悶呀

1 提高晶體加工面的光潔度 hRuo,FS#:  
2 提高鍍膜的透過率以及膜層的抗激光損傷能力

多謝幫主指點，萬分感謝！

今天又補做了一實驗，在高溫情況下打光17S,歇10s,循環(huán)8次后；間隔1小時測一次，但這次我將水箱的溫度控制在40°左右，之前有人說是熱效應(yīng)導(dǎo)致晶體端面損傷

結(jié)果還是出現(xiàn)了端面污染（打了8組后開腔檢測），用酒精+蠶絲棉可擦拭掉，不擦拭就變成端面損傷了，

還有就是請教下大家，我們另一項目用"被動Q",用的是鍵合晶體，密封和清洗都沒做過，但它從來沒有出現(xiàn)過晶體端面污染或損傷 hdsgOu  

這個出現(xiàn)晶體污染的項目是用“主動調(diào)Q”，晶體是Nd:YAG ,請問2樓，按您的建議，端面光潔度，透過率及抗損傷閾值多少合適呢？

看來只能高高掛起了

好吧 幫你頂 希望高手給解答下 :E