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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2014-06-13

關(guān)鍵詞：光學(xué)元件拋光表面損傷

摘要：設(shè)計(jì)光學(xué)元件拋光亞表面損傷檢測(cè)實(shí)驗(yàn)，使用原子力顯微鏡(AFM)檢測(cè)傳統(tǒng)拋光亞表面塑性劃痕與磁流變拋光亞表面塑性劃痕的最大深度，通過比較驗(yàn)證磁流變拋光對(duì)亞表面塑性劃痕的抑制能力;同時(shí)利用二次離子質(zhì)譜儀的深度剖析功能檢測(cè)磁流變拋光石英樣件后表面水解層的深度，指出磁流變拋光屬于低損傷性拋光技術(shù)。


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