真空熱蒸發(fā)鍍膜故障的排除 [復(fù)制鏈接]

真空熱蒸發(fā)鍍膜故障的排除 l@W1bS  
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1．鍍鋁層陽(yáng)極氧化故障的排除
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故障名稱(chēng)       成 因 及 對(duì) 策 Z>l%:;H  
氧化層表面有點(diǎn)狀痕跡     (1)預(yù)熔時(shí)電流過(guò)高或未加擋板。應(yīng)適當(dāng)降低預(yù)熔電流及加設(shè)擋板。 x*#9\*@EI  
(2)蒸發(fā)電流過(guò)高。應(yīng)適當(dāng)降低 'g5 Gdn  
氧化層表面有流痕印跡     (1)鍍件表面清潔不良。應(yīng)加強(qiáng)清潔處理。 -prc+G,qyp  
(2)擦拭鍍件時(shí)蘸用乙醇過(guò)多。應(yīng)減少乙醇的蘸用量。 fW3awR{  
(3)手指接觸鍍件表面后留下指印。應(yīng)禁止手指接觸鍍件表面。 \cx==[&(  
(4)唾液噴濺到鍍件表面，使鍍層表面產(chǎn)生圈狀印跡。操作者應(yīng)帶上口罩 gm8FmjZtf  
氧化層表面有灰點(diǎn)     (1)真空室底盤(pán)或室壁太臟。應(yīng)使用乙醇擦拭干凈。 -dyN Ah?=  
(2)夾具太臟。應(yīng)按工藝規(guī)程定期清洗夾具 fbrCl!%P  
氧化層表面發(fā)紅     (1)陽(yáng)極氧化電壓偏低，氧化層厚度不夠。應(yīng)將電壓提高到120V左右。 Lk8[fFa4  
(2)氧化時(shí)間太短，導(dǎo)致陽(yáng)極氧化后表面發(fā)紅。應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)氧化時(shí)間 +tCNJ<S@l$  
氧化層表面發(fā)花     (1)氧化電壓太高，氧化層部分發(fā)藍(lán)。應(yīng)適當(dāng)降低電壓。 bXNM.K  
(2)各氧化點(diǎn)的電壓或氧化時(shí)間不相同。應(yīng)使各氧化點(diǎn)的電壓和氧化時(shí)間保持一致。 $S'~UbmYU  
(3)電解液溫度太高。應(yīng)適當(dāng)降低 Dg=!d)\  
氧化層表面發(fā)黃     (1)氧化電壓太高，氧化層太厚。應(yīng)適當(dāng)降低電壓。 ^[g7B"`K5  
(2)氧化時(shí)間太長(zhǎng)。應(yīng)適當(dāng)縮短。 w D}g\{P  
(3)氧化點(diǎn)太多。應(yīng)適當(dāng)減少 dd-`/A@  
氧化層表面有灰白細(xì)點(diǎn)     (1)溶液中鋁含量增加。應(yīng)更換部分溶液。 BG9.h!  
(2)電解液溫度太高。應(yīng)適當(dāng)降低。 Hx?OCGj=S*  
(3)鍍件水洗不足，表面殘留電解液，在水分或潮濕氣體作用下形成灰白色的氫氧化鋁細(xì)