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    [求助]請教一個減反射薄膜設(shè)計(jì) [復(fù)制鏈接]

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    離線hhp409
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2015-10-09
    已知基板為硅片折射率為3.85,從基板到外界空氣依次為:5nm厚的二氧化硅層、2層不同折射率和厚度的氮化硅薄膜、空氣,第一層氮化硅,其厚度為d1(具體數(shù)值待定),折射率為n3(折射率在2.0-2.5之間可調(diào),可取其任意值,具體數(shù)值待定),第二層氮化硅,其厚度為d2(具體數(shù)值待定),折射率為n4(折射率在2.0-2.5之間可調(diào),可取其任意值,具體數(shù)值待定),且d1+d2=75nm,要求在300-1100nm的整個太陽光譜反射率最低,請問:n3、n4、d1和d2值是多少才能達(dá)到最佳?謝謝! %*P59%  
     
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    離線huangweipeng
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2018-05-02
    好復(fù)雜,看不懂,等大神
    離線opticsrain
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2019-04-29
    這幾層都是基板嗎,如果是這樣的話,要先對基板做一個橢偏儀分析,確認(rèn)基板上幾層膜的具體厚度和折射率之后,在做膜設(shè)計(jì)。 hxx,E>k