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離線光研吳婷婷
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ZEMAX學(xué)習(xí)指南:技術(shù)問題 問題1: 如何將一均勻出光之點(diǎn)光源改為具有高斯能量分布之點(diǎn)光源? 解答: 您需在System->General的Aperture標(biāo)簽中,在Apodization Type的下拉式選單中,選擇Gaussian,而Apodization Factor為定義高斯的能量衰減因子。 一般可依您的需求設(shè)1~4之間,不建議設(shè)罝大于4的值,因?yàn)檫@會(huì)造成采樣的光線數(shù)太少而無法計(jì)算出有意義的結(jié)果,您可參考Samples\Sequential\Interconnects\Ballcoupling.ZMX的ZEMAX例子檔。 問題 2:如何將點(diǎn)光源更改為面光源(直徑0.02mm之面光源)? 解答: 您需在System->General的Aperture標(biāo)簽中,在ApertureType的下拉式選單中,將Object Space NA改為Entrance Pupil Diameter,并在ApertureValue的欄中鍵入0.02,最后還需將OBJ的Thickness改為Infinity,表示光源為無窮遠(yuǎn)的平行光入射。 問題 3:如果我想改變NA,那我需要改變那些設(shè)置? 解答: 您要檢查NA值(=n × sinθ)和您現(xiàn)在用的Laser 的偏角是否匹配,然后你在General中的Aperture Value 鍵入您計(jì)算的數(shù)值。如果您的光線正常通過鏡頭,你不需要改變其它設(shè)置。 |