大家好，最近在鍍時用
TFCalc模擬的結(jié)果如下，Stack: (HL)^10 L (HL)^10，H: Si3N4，L: SiO2，其中高、低
折射率材料是用的實際
鍍膜后實際測試的折射率
參數(shù)，應(yīng)該比較真實吧。
a*t @k*d_ 
F vTswM>
5i}g$yjZ< 但測試結(jié)果如下，除了透射峰的位置不準(zhǔn)確外，透射峰基本上沒有了，為什么結(jié)果很差。我一直認(rèn)為是吸收太大所致，但
模擬時采用的是真實測量的n、k值，多層膜吸收已經(jīng)考慮之后進(jìn)行的模擬，請大家?guī)兔Ψ治鲆幌拢浅８兄x！
_#Lq~02 % 
@LFB}B f~,Ml *Zp "Ec9.#U/ |#{ i7>2U l D->1=z orYZ<,u 8_ascvs5 yJ `{\7Uqg [ 此帖被zlygsl在2017-05-08 19:41重新編輯 ]
