[討論]離子源加速電流是否越大越好 [復制鏈接]

現在使用的離子源存在兩個問題： ~4}*D
hsh  
1、加速電流非常不穩(wěn)定，突變比較大，數量在10mA以內波動；是否跟離子源工作狀態(tài)的穩(wěn)定性有關？ ~7KynE  
2、加速電流設置不知道多少數值為佳？ ysQEJm^|-u  
有沒有懂得，指點一二。 OME!W w  

是不是設定在最大輸出功率 的60~80%，會不會是比較妥當的~ D>,$c  
QYFN:XZ  
加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓

10mA很小了。光馳基本上是100mA的變化。 Q#d+IIR0gK  
加速電流變化一般是氣體流量的問題，氣體流量是受真空壓力變化波動的。  3D[:Rf[  
而真空壓力波動的原因很大一部分是受電子槍蒸發(fā)的影響。 ,3g]=f  

WzNG<rG  
一般RF源出廠時候做分布都是最高電壓最大電流為基準的。 UU;Ysj  
所以最大電流分布是最好的。但是電流大了電壓高了， '_Hb}'sFI  
溫度也就高了，膜系的應力會受影響。 |
hZ|+7  
可能會產生脫膜，變形等問題。

rexchou:是不是設定在最大輸出功率 的60~80%，會不會是比較妥當的~
加速電流我不清楚能不能設定，參數那邊我只知道可以設定加速電壓 (2017-12-01 10:06)  ZLFdnC@  

cJp1 <R  
加速電壓是膜系參數設置的，電流好像可以通過界面設置，但是鍍膜過程記錄中這個加速電流一直在波動，外觀做不好，我懷疑跟這個有關系。但是不能確定，所以問一下你們有沒有做過這些驗證。

ouyuu:10mA很小了。光馳基本上是100mA的變化。 rgY?X$1q_  
加速電流變化一般是氣體流量的問題，氣體流量是受真空壓力變化波動的。 \#*;H|U.x  
而真空壓力波動的原因很大一部分是受電子槍蒸發(fā)的影響。
一般RF源出廠時候做分布都是最高電壓最大電流為基準的。 *V<2\-  
....... (2017-12-01 17:22)  l\l]9Z6%  

$;j6*,H  
膜層倒是沒有受多大的影響，但是外觀感覺不太穩(wěn)定，會不會與加速電流波動有關��？

外觀？指顏色還是發(fā)霧，或者是灰塵？ \\pyu]z  
原因不一樣的。

我以前有一個類似的情況：我是AR氣瓶端接口處漏氣，使MFC氣流量不穩(wěn)定，但beam電流是穩(wěn)定的，鍍出的膜色也不穩(wěn)定。你那個情況beam不穩(wěn)，折射率有偏差。

10mA的變化不算什么。如果設定是1000mA的話，也就1%左右。 2Mi;}J1C{  
這點變化量比傘差還小，根本不可能引起折射率問題。 $GKm`I"  
aV%rq9Tp  
漏氣也不太可能造成氣流不穩(wěn)。 i(;u6Rk  
氣流是MFC控制的，而漏點在MFC前面，漏不漏氣MFC一樣控制。 @Sd:]h:f-  
真正的原因在氣體純度變化了，空氣里大部分是氮氣。 Uwil*Jh
 
你鍍的氧化物材料變成了部分的氮化物材料。

ouyuu:外觀？指顏色還是發(fā)霧，或者是灰塵？ sYgnH:t X  
原因不一樣的。 (2017-12-04 00:36)  1dO8[5uM7a  

B K;w!]
 
外觀就是點子，具體是灰塵還是啥，還真不好說，呈現出來的是密集型的小點子一樣。

點子更可能是中和器引起的。 Bb`^,?m  
中和器多維護，點子就會少很多。