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991518 2020-08-24 23:33

用于光刻機照明均勻化的微柱面鏡陣列設(shè)計

摘要:均勻照明是投影光刻機中實現(xiàn)光刻線條高度均一性的重要條件。采用微透鏡陣列作為照明勻光器件,能夠 在實現(xiàn)矩形照明光斑的同時獲得極高的遠場分布均勻性;谖⑼哥R陣列現(xiàn)有的加工工藝,設(shè)計出二維方向分開 的柱面微透鏡陣列,并通過優(yōu)化設(shè)計,克服了微透鏡之間的接縫在遠場光場處產(chǎn)生的中心亮線。仿真分析表明,所 設(shè)計的微透鏡陣列的遠場分布不均勻性達到0.85%。 & J'idYD