| 杜偉 |
2005-11-09 15:25 |
拋光常見(jiàn)疵病產(chǎn)生原因及克服方法
拋光常見(jiàn)疵病產(chǎn)生原因及克服方法 3EO:Uk5<
印跡 &r0U9J
1)拋光模與鏡盤吻合不好出現(xiàn)油斑痕跡
'LW~_ \
2)玻璃化學(xué)穩(wěn)定性不好 ~A$y-Dt'
3)水珠、拋光液、口水沫等未及時(shí)擦拭干凈 G X0S9s
克 服 方 法 1}E R+;If
1)選用合適的拋光膠,修刮或?qū)Ω?聚胺脂)拋光模使之吻合 -ztgirU
2)拋光中產(chǎn)生的印跡可以選用適當(dāng)?shù)奶砑觿?而完工后產(chǎn)生的印跡可以保護(hù)漆 =GJ)4os
3）避免對(duì)著工件講話,如下盤擦不干,應(yīng)擦凈,對(duì)化學(xué)穩(wěn)定性不好玻璃還應(yīng)烘干
YG K7b6
光圈變形 wGhy"1g#
1)粘結(jié)膠粘結(jié)力不適 'gv ~M _
2)光圈未穩(wěn)定既下盤
-?vII~a9y
3)剛性盤加工時(shí),剛盤使用時(shí)間較長(zhǎng)未檢測(cè)(沉孔臟或變形) +Jw+rjnP
4)剛性盤加工時(shí)被加工工件外圓偏大,上盤方法不當(dāng)?shù)?span style="display:none"> q) Qg'l^f
克 服 方 法 Gk-49|qIV
1)光圈變形主要發(fā)生在較薄的零件或不規(guī)則的零件,應(yīng)采用適當(dāng)?shù)纳媳P方法 Z%$ tV3a?
2)應(yīng)按工件大小給予一定的光圈穩(wěn)定時(shí)間 wzf%~ ats
3)剛盤定期進(jìn)行檢測(cè)和修正 .{,f b
4）嚴(yán)格按工藝和上盤操作規(guī)程加工 #,B +&SK{
麻點(diǎn)： |!hN !j*)
產(chǎn) 生 原 因 *c> B,
1) 精細(xì)磨、拋光時(shí)間不夠 !(nFq9~~Q
2) 精細(xì)磨面立不均勻或中間與邊緣相差大 /Xf_b.ZM&
3)有粗劃痕拋斷后的殘跡 `/RcE.5n\@
4)方形或長(zhǎng)方形細(xì)磨后塌角 }!*CyO*
5)零件在鏡盤上由于加工造成走動(dòng) oxZXY]$y
6) 精細(xì)磨面形誤差太大,尤其是偏高,易造成邊緣拋光不充分 SbK6o:[
7) 拋光模加工時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或拋光液使用時(shí)間長(zhǎng)而影響拋光效率 J7FzOwd1h
克 服 方 法 Vqp 3'=No
1) 精細(xì)磨應(yīng)除去上道粗砂眼, 拋光時(shí)間應(yīng)足夠 S pIdw0
2) 精細(xì)磨光圈匹配得當(dāng),應(yīng)從邊緣向中間加工 qW
2'?B3<
3)發(fā)現(xiàn)后應(yīng)作出標(biāo)識(shí)單獨(dú)擺放或重拋 kO/]mNLG
4)用開(kāi)槽平模細(xì)模、添加砂要均勻 2#)z%K6T
5)選用適當(dāng)?shù)恼辰Y(jié)膠，控制工序溫度和鏡盤忽冷忽熱, 粘結(jié)膠厚度應(yīng)符合標(biāo)準(zhǔn) aW*8t'm;m'
6)精細(xì)磨各道光圈匹配應(yīng)嚴(yán)格按工藝操作指導(dǎo)卡操作 :R1F\FT*
7)更換拋光皮及拋光液的各項(xiàng)指標(biāo)(比重、PH值等)周期性管理
|
|