華海清科“一種用于CMP的光學(xué)測量裝置和化學(xué)機械拋光設(shè)備”

據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，華海清科股份有限公司取得一項名為“一種用于CMP的光學(xué)測量裝置和化學(xué)機械拋光設(shè)備”，授權(quán)公告號CN220389073U，申請日期為2023年7月。 T1fX[R ^\  
專利摘要顯示，本實用新型公開了一種用于CMP的光學(xué)測量裝置和化學(xué)機械拋光設(shè)備，所述光學(xué)測量裝置包括：在線光學(xué)測量組件和參考光學(xué)測量組件，所述在線光學(xué)測量組件包括用于測量晶圓的非金屬膜厚的第一光學(xué)傳感器和第一窗口，所述參考光學(xué)測量組件包括用于獲得校準(zhǔn)光強的第二光學(xué)傳感器、第二窗口、校準(zhǔn)片和遮擋組件。 
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