[下載]晶體感應(yīng)片（Crystal Sensor） [復(fù)制鏈接]

性能說明：  D#m+w  
Quartz晶體感應(yīng)片是至今為止制造的電氣產(chǎn)品中最敏感的產(chǎn)品。用于薄膜涂層時(shí)可以檢測(cè)到1微微米（1兆分之1）大小的范圍。這類似于1原子厚度的涂膜層。同時(shí)，晶體對(duì)熱很敏感，可以對(duì)1/100度以下的溫度變化作出反應(yīng)。并且，Quartz晶體感應(yīng)片在完成階段中對(duì)應(yīng)力反應(yīng)敏感，可以探測(cè)到原子的移動(dòng)，這一原子的移動(dòng)是在典型的光學(xué)鍍膜作業(yè)中，鍍膜于晶體上的薄膜發(fā)生冷卻時(shí)發(fā)生。你也許會(huì)對(duì)像光學(xué)鏡片鍍膜一樣的大規(guī)模作業(yè)中用這種敏感的感應(yīng)片怎樣進(jìn)行作業(yè)產(chǎn)生疑問。 +dh]k=6  
簡(jiǎn)單地說可以勉強(qiáng)地進(jìn)行作業(yè)。除了GOLD及鋁或SILVER一樣應(yīng)力低的物質(zhì)以外，其他大部分的鍍膜工藝立即就能把感應(yīng)片毀壞。像MgF2那樣代表性的防止反射鍍膜工藝是用高溫（超過300度）和高的應(yīng)力（晶體上鍍膜的薄膜冷卻時(shí)發(fā)生）給感應(yīng)片雙重致命打擊。晶體暫時(shí)裸露在MgF2時(shí)可以看到在RATE或厚度上以陽(yáng)離子形式進(jìn)行不規(guī)則反應(yīng)的情況。像Zirconium或chromium一樣應(yīng)力高的金屬膜也是一樣的。 ak;Z;  
注意事項(xiàng)： 65J'uN  
（1）    絕對(duì)不能觸摸感應(yīng)片的中間部位：因這一部位是活躍的震動(dòng)部位。任何油跡或灰塵及擦傷都能引起感應(yīng)片造成震動(dòng)能力下降。操作時(shí)要使用塑膠夾子夾住感應(yīng)片邊緣。 sq)Nn&5A  
（2）    2清潔感應(yīng)片托架，防止感應(yīng)片的前后中央部分接觸任何物質(zhì)。并且，放入感應(yīng)片時(shí)感應(yīng)片和托架之間如果進(jìn)入異物或產(chǎn)生任何缺陷都會(huì)防礙電極的接觸，并且發(fā)生涉及到感應(yīng)片震動(dòng)形態(tài)的應(yīng)力點(diǎn) `g :<$3}  
（3）    3放入托架內(nèi)以后盡量用輕微的AIR噴射器（過濾過的沒有油水的空氣）進(jìn)行吹氣操作，清除作業(yè)時(shí)不小心粘在感應(yīng)片上的微小鍍膜碎片或灰塵。 T)Nis~  
（4）    4感應(yīng)片的HEAD應(yīng)該用充分的攝氏20-50度的冷卻水保持。 Y*Q(v  
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不論任何溫度能夠保持1-2度以內(nèi)的溫度變化就能得到好的結(jié)果。并且溫度越高，附著力越強(qiáng)，所以感應(yīng)片盡可能達(dá)到50度。這樣鍍膜層覆蓋于晶體的效果才更好。

磁控濺射原理電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場(chǎng)洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場(chǎng)的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長(zhǎng)，在運(yùn)動(dòng)過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離靶材，最終沉積在基片上。 磁控濺射就是以磁場(chǎng)束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)路徑，改變電子的運(yùn)動(dòng)方向，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片，真空室內(nèi)壁及靶源陽(yáng)極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽(yáng)極在同一電勢(shì)。磁場(chǎng)與電場(chǎng)的交互作用（ E X B drift）使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀，而不是僅僅在靶面圓周運(yùn)動(dòng)。至于靶面圓周型的濺射輪廓，那是靶源磁場(chǎng)磁力線呈圓周形狀形狀。磁力線分布方向不同會(huì)對(duì)成膜有很大關(guān)系。 在E X B shift機(jī)理下工作的不光磁控濺射，多弧鍍靶源，離子源，等離子源等都在次原理下工作所不同 .$OInh  
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（1） 操作人員要熟悉各種儀表、泵，設(shè)備的各部分。閱讀并理解各種說明書。 （2） 冷卻水水壓應(yīng)保持0.1～0.2 Mpa之間，出水溫度≤45℃。 （3） 壓縮空氣壓力在0.4～0.5 Mpa之間。 （4） 每爐開機(jī)前，要檢查保護(hù)氣的氣瓶容量，以免氣體充不足，更換氣瓶。 （5） 開機(jī)后如有異常情況，應(yīng)立即排除或停機(jī)查找原因。 （6） 經(jīng)常檢查各部分的回水量，工作時(shí)應(yīng)保證各部分有充足的冷卻水。 （7） 設(shè)備停止使用時(shí)，應(yīng)將爐內(nèi)氣體抽空，長(zhǎng)時(shí)間不用，要充入保護(hù)性氣體，并把設(shè)備水冷套內(nèi)的循環(huán)水放掉。 （8） 機(jī)械泵、羅茨泵應(yīng)定期換油加油，羅茨泵的油杯中要保持一直有油。換油時(shí)一定要把廢油放干凈。 （9） 擴(kuò)散泵換油時(shí)，內(nèi)部如有氧化，要把擴(kuò)散泵內(nèi)部的氧化層處理干凈，然后再換上新油。 （10）充入的保護(hù)性氣體，純度不應(yīng)小于99.99%。 （11）本設(shè)備不允許使用易燃易爆和具有腐蝕性氣體作為保護(hù)氣氛。 （12）設(shè)備表面及儀表表面要保持清潔，擦拭爐體內(nèi)壁不允許有帶有水份及沾有非真空類用油的抹布擦拭。 （13）氣動(dòng)系統(tǒng)的氣動(dòng)三連件上的油水分離器要經(jīng)常放水，油霧器內(nèi)應(yīng)注入真空擴(kuò)散泵油。 （14）設(shè)備的整機(jī)電壓要保證在350～420 V范圍內(nèi)。三相要平衡。 （15）規(guī)管、電接點(diǎn)壓力表、熱偶等處要經(jīng)常涂上擴(kuò)散泵油，使之與座之間形成一層油膜，防止漏氣。以上各部分及法蘭連接處不允許長(zhǎng)期使用真空封泥密封。 （16）各部分的螺栓定期檢查，如發(fā)現(xiàn)松動(dòng)，及時(shí)擰緊。 （17）設(shè)備工作時(shí)，注意觀察各儀表的顯示情況，及各泵的聲音，以便及時(shí)發(fā)現(xiàn)異常，找出問題。 （18） 設(shè)備的使用環(huán)境，在相對(duì)濕度85%以下，溫度在10～40℃。在拆修設(shè)備時(shí)，各部分不許用重錘敲擊。

真空泵油的使用注意事項(xiàng) k:qou})#4  
真空泵油的使用注意事項(xiàng) (1) 裝油的窗口必須清潔干凈,嚴(yán)禁在陽(yáng)光下曝曬和露天存放，要存放在陰暗、干燥 和通風(fēng)場(chǎng)合嚴(yán)防水份和灰塵的混入。 (2) 取油或裝油時(shí),桶蓋周圍的小雨必須除盡，防止雜物混入油中，引起泵的磨損。 (3) 不同牌號(hào)，品種的真空泵油不能混用，新舊油品不能混用。 (4) 嚴(yán)格避免真空油與其它潤(rùn)滑油混合，更不能混入輕質(zhì)油品，否是將會(huì)會(huì)影響真 空性能。 (5) 真空泵應(yīng)盡量避免抽除溶劑，水蒸氣和有腐蝕性氣體等，必須用時(shí)須勤檢查、 勤換油。 (6) 換油時(shí)應(yīng)將泵體內(nèi)使用過的油品排盡，將新油倒入后緩緩轉(zhuǎn)動(dòng)泵軸，清掃泵腔 排盡殘油，重復(fù)清洗數(shù)次，等洗凈后換入新油。 (7) 泵大修時(shí)必須用溶劑或清洗劑將泵的各部件清洗干凈，并將部件烘干。 (8) 加油用具必須有是專用設(shè)備，不應(yīng)是盛過其它油品或溶劑的容器;抽泵。 (9) 礦物油與酯油或其它合成油互換時(shí)，應(yīng)將泵拆開作徹底清洗。包括各零部件均 須浸漬在酯油內(nèi)以防污染。 (10) 如吸入化學(xué)氣體及溶劑，對(duì)泵油污染影響真空后，則必須作清洗換油處理。 (11) 換油期限： a． 當(dāng)泵油真空下跌，滿足不了需要時(shí)； b． 當(dāng)泵油顏色變深，呈褐色時(shí)，均應(yīng)當(dāng)換油

應(yīng)該加入電子槍和離子槍的維護(hù)方法，那就更完善了

樓主真是大好人，學(xué)習(xí)了！謝謝！

作者寫的挺全面的，值得學(xué)習(xí)，謝謝！