介紹
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模擬的關(guān)鍵部件是來自參考文獻[1]的線性錐形硅波導(dǎo)(160 nm至500 nm寬度變化超過100 um長度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波導(dǎo)中(注意:使用的尺寸減小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便達到更快的模擬時間)
4j8$&~/ 為了精確模擬線性錐形硅波導(dǎo),錐形的網(wǎng)格尺寸應(yīng)該要設(shè)置密度大一些,因此在這種情況下使用不均勻的網(wǎng)格。
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光源在時域中設(shè)置為CW(λ= 1.55 um),在空間域上設(shè)置為高斯橫向分布,并且位于二氧化硅波導(dǎo)的硅紙尖端。
ns*:mGh 注意:模擬時間應(yīng)足夠長,以確保穩(wěn)態(tài)結(jié)果
3 qJ00A 81C;D`!K IMBjI#\ wa~zb!y< [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014)
c&N;r|N [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003);
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8&nb@l wph8ln"C- 要模擬的關(guān)鍵部件是來自參考文獻[1]的線性錐形硅波導(dǎo)(160 nm至500 nm寬度變化超過100 um長度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波導(dǎo)中(注意:使用的尺寸減小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便達到更快的模擬時間)
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s 0_*^cZ 光源在時域中設(shè)置為CW(λ= 1.55 um),在空間域上設(shè)置為高斯橫向分布,并且位于二氧化硅波導(dǎo)的硅紙尖端。
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