摘要
4wx_@8 Q\GSX RP i{nFk',xX R(cM4T.a 干涉測(cè)量法是一項(xiàng)用于
光學(xué)測(cè)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓、缺陷、
機(jī)械和熱變形的高
精度測(cè)量。作為一個(gè)典型示例,在非
序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下,于
VirtualLab Fusion中建立了具有相干
激光源的馬赫-澤德
干涉儀。該例證明了
光學(xué)元件的傾斜和位移對(duì)干涉條紋圖的影響。
ood,k{ b#{[Pk,w9 建模任務(wù)
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