我國開發(fā)新型飛秒激光等離子激元光刻技術 可加工石墨烯

發(fā)布：cyqdesign 2020-05-11 08:08 閱讀：8141
10日，記者從中科院長春光學精密機械與物理研究所獲悉，來自該所等單位的研究人員，開發(fā)了一種新型飛秒激光等離子激元光刻技術(FPL)。利用該技術，研究人員在百納米厚的硅基氧化石墨烯薄膜表面實現(xiàn)了高質(zhì)量微納周期結(jié)構的快速制備。相關成果發(fā)表在《光：科學與應用》上。 sevaNs  
1