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1.概述和背景 ohGfp9H t3Y:}%M Shintech開發(fā)了新功能,尤其對LC透鏡研究和設(shè)計很有幫助。 G<^{&E+= yqiq,=OvP 【LC透鏡需要thicker cell gap】 @[i4^ 5j-YM LC透鏡有較高的延遲值,超過幾千納米,間隙厚度需要做得更厚來得到更高的阻滯值。 w~?~g<q 1\rz%E 【LC材料與電場】 ^UhBH@ti gy9U2Wgf| LC材料響應電場,更厚的間隙帶可以產(chǎn)生更高的應用電壓,這樣,LC透鏡就要求高電勢差。 c#tjp(- 'D"C4;X B\:%ufd
~ fku<,SV$O4 LC透鏡需要高電勢差 bl(RyAgA o"BoZsMk 2.高阻膜和頻率 =;&yd';k t=O8f5Pf{ 有兩種模擬方法,一個是dynamics,另一種是statics,statics通常用來獲得V-T曲線圖,這里我們需要考慮statics模擬方式中電壓的意義。電壓頻率應該為0[HZ],換句話說,statics是在DC假設(shè)的條件下計算出來的。 4G>H ?r
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