|
|
如何將光聚焦到一個(gè)越來(lái)越小的光斑上，是光學(xué)領(lǐng)域中一直存在的問(wèn)題，特別是最近，已發(fā)展出各種旨在深聚焦光的方法。研究高數(shù)值孔徑條件下的光聚焦通常需要全矢量電磁仿真技術(shù)。我們使用VirtualLab Fusion軟件演示了不同偏振態(tài)(如徑向)和孔徑形狀(如環(huán)形)對(duì)聚焦區(qū)域電磁場(chǎng)的影響，這種分析既可以用理想透鏡，也可以用具有明確結(jié)構(gòu)和材料信息的真實(shí)透鏡進(jìn)行。
Ucj ?$= >t
|
