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摘要 *|n-Hr
.nh }f}j 在半導體產(chǎn)業(yè)中,晶片檢測系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度,檢測系統(tǒng)常使用一個高NA的物鏡,工作在紫外波長范圍。作為一個例子,模擬了一個完整的晶片檢測系統(tǒng),包括高NA聚焦效應和光與微結(jié)構(gòu)的互作用,并演示了圖像的形成。 jNV)=s^ed[ jMFLd 2E7vuFH4c 建模任務 d7(g=JK< Ix~_.& %?
87#| 結(jié)果 +h*-9
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