[分享]The vStack Enhancement 加強對非平行的鍍膜層的計算及最佳化 [復(fù)制鏈接]

在許多的光學(xué)系統(tǒng)中主軸的方向被一平面所限制住。VStack是對這一類光學(xué)系統(tǒng)特性的計算工具。在vStack中光源是由一條條是光線所組成并透過系統(tǒng)進行進跡的工作，所以可以同時對任何傾斜角度的表面計算反射及穿透。

因為針對多重表面在方向上變化進行針?biāo)�，所以在vStack中是使用生產(chǎn)率(throughput)的方式取代平常使用的反射及穿透系數(shù)。生產(chǎn)率(throughput)是來自光束透過系統(tǒng)所得到。使用者只需要簡單的定義表面的順序，表面的角度及反射與穿透等參數(shù)。VStack將會針對此系統(tǒng)所有的入射角度進行計算。vStack里面也提供了可調(diào)整的入射光束角度，而不需要改變vStack。光學(xué)系統(tǒng)大部份都會包含一些傾斜的表面，所以就會顯現(xiàn)出極化的特性。因此橢圓儀(ellipsometeric)的項 及 將會被計算。使用 及 是因為它們是獨立于表面間距的絕對值。

此類幾何結(jié)構(gòu)將會造成在儀器表面上同時發(fā)生的p及s極化光。當(dāng)光束方向為與平面有一傾斜角，透過skew angle，這個問題就不會再發(fā)生。一些光線，原本為s極化光從系統(tǒng)射出時將會成為p極化光，而一些p極化光將會成為p極化光。我們稱此一效應(yīng)為極化泄漏(polarization leakage)，其第一階正比于 skew angle。因此我們可以得到一新的效能參數(shù)極化泄漏參數(shù)(polarization leakage coeffiecinet)，來描述此一效應(yīng)。鍍膜設(shè)計將會影向極化泄漏參數(shù)，同時也有可能影向反射及穿透系數(shù)，而且此類參數(shù)為再定義(refinable)之參數(shù)在vStack的計算是非常簡易的，所需要設(shè)定的部份只有一道光束。在許多系統(tǒng)中，包含角度，多層膜，分光器。為了讓此類系統(tǒng)的參數(shù)能夠最佳化，必須進行corefinement這項功能。在vStack可利用許多的merit函數(shù)來進行自動化再調(diào)整的工作。

想象我們再設(shè)定一個復(fù)雜的vStack，其表面為不同的傾斜表，且其光線為部份反射部份穿透，也許將會是一項吃力的工作。這種設(shè)計很容易的各項表面很容易的被錯誤的安排，使得光束無法打到正確的位置，或就此消失。為了確定vStack的特色，使其更容易，所以其中提供了一個圖形工具。這個自動描繪vStack的配置工具，顯示出光線在穿過系統(tǒng)，其方向及在各表面上之效應(yīng)。使用此一工具將使建構(gòu)vStack更為容易。