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摘要 @kWL "yy, 9%"7~YCDas 在傳統(tǒng)的Talbot光刻中,在光敏層中僅使用一個圖像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通過傅立葉模態(tài)法(FMM,也稱為RCWA)在VirtualLab Fusion中對具有一層圓錐體的相位掩模進(jìn)行了建模。探測得到不同的Talbot像,柱狀圖位于主像面上,孔狀圖位于次像面上。 x9"Cm;H% UqOBr2UmG %.Ma_4o
Z #h5lz%2g 建模任務(wù) DB5J3r81 Nmj)TOEPW V4:/LNq_] 結(jié)構(gòu)和材料參數(shù)來自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) :A8}x=K 0O9b
7F 某一位置的Talbot圖樣 Vxh39eW d:@+dS H<(F$7Q!\
/MGapmqV9 某一位置的Talbot圖樣 {^WK#$] cZYy+ l
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