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摘要 /uNgftj O} &%R: 干涉測(cè)量法是光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。 它被廣泛用于例如,表面輪廓、缺陷、高精度的機(jī)械和熱變形。 作為一個(gè)典型示例,在VirtualLab Fusion中借助非序列場(chǎng)追跡,構(gòu)建了具有相干激光光源的Mach Zehnder干涉儀。 證明了光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。 .boBo$f
c1wP/?|.> ]zt77'J K:cZq3F 建模任務(wù) }~akVh`3 \-h%z%{R ^W*T~V*8 =.Hq]l6+ 元件傾斜引起的干涉條紋 .^F(&c*[' f~rq)2V: </jzM?i
G9YfJ?I 元件移動(dòng)引起的干涉條紋 `a+"[% ?b,x;hIO 2d:5~fEJp 5j{jbo=! 走進(jìn)VirtulLab Fusion \I[f@D-J ElK7jWJ+ V9 J`LQ\0 m) -DrbE VirtualLab Fusion工作流程 5L!cS+QNU dsiQ~ [
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