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vue@ 摘要 e@2E0u4
G]m[S- 高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此,在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場(chǎng)追跡分析。 通過(guò)光場(chǎng)追跡,可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑,這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,并且可以深入了解矢量效應(yīng)。 #LrCx"_& ]$?zT`>(F w>9H"Q[ P&-D0T_ 建模任務(wù) L_.xr
? YN5OuKMUd' @y;tk$e Y|x6g(b 入射平面波 'EH 波長(zhǎng) 2.08 nm "x=@,*Bk 光斑直徑: 3mm 3
4A&LBwC 沿x方向線偏振 mNBpb} r=P$iG'& 如何進(jìn)行整個(gè)系統(tǒng)的光線追跡分析? _I
-0, 如何計(jì)算包含矢量效應(yīng)的焦點(diǎn)的強(qiáng)度分布? @tjZvRtZ %DND&0` 概覽 B4*X0x •樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。 )l[7;ZIw$ •接下來(lái),我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對(duì)樣本系統(tǒng)進(jìn)行模擬。 oRvm*"8B dZ]\1""#H <5!RAdaj+ 光線追跡模擬 q*<J$PI •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作為模擬引擎。 W
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