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    [分享]馬赫-曾德?tīng)柛缮鎯x [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-04-16
    摘要 X{!,j}  
     rBL2A  
    干涉測(cè)量是一種光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓，缺陷，機(jī)械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測(cè)量。 作為一個(gè)典型的例程，在非序列場(chǎng)追跡的幫助下，我們?cè)?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=VirtualLab',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_9">VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德?tīng)柛缮鎯x，本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對(duì)干涉條紋圖案的影響。 E,?IIRg&  
    b9?Vpu`?  
    建模任務(wù) GGHeC/4  
    pl,XS6mB  
    n>Oze7hVY  
    元件傾斜引起的干涉條紋 8|i<4>  
    yCkc3s|DA;  
    m$_l{|4z  
    元件移位引起的干涉條紋 {*hGe_^  
    525^/d6v  
    c1_Zi  
    文件信息 "Zn nb*pOM  
     ON!Fk:-  
    ,s}&|+ '"  
    QQ：2987619807
     
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