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    [分享]用于圓形高帽整形的折射光束整形元件的參數(shù)優(yōu)化 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-04-26
    案例307.01：用于圓形高帽整形的折射光束整形元件的參數(shù)優(yōu)化 %{YN70/  
    這個案例說明了通過折射光束整形編輯器設(shè)置一個光束整形系統(tǒng)。所得到的系統(tǒng)可以通過VirtualLabTM的參數(shù)優(yōu)化來提升整個系統(tǒng)的性能。 |o,8V p  
    關(guān)鍵詞：參數(shù)優(yōu)化，透鏡系統(tǒng)，光束整形，高帽，折射光束整形元件 bSsh^Z  
    所需工具箱：基本工具箱 k9$K}  
    相關(guān)應(yīng)用：101.01，100.01，284.01 cU ? 0(z7  
    相關(guān)教程和技術(shù)說明：Tutorial101.01,TN.021 n9@ of  
    建模任務(wù) v[#9+6P=  
    系統(tǒng)建立會話編輯 20vXSYa~  
     uIcn{RZ_z  
    折射光束整形編輯器幫助建立一個標(biāo)準(zhǔn)的光束整形系統(tǒng)。需要定義入射光束參數(shù)、光學(xué)結(jié)構(gòu)參數(shù)和輸出場參數(shù)。編輯器中所有參數(shù)被儲存在文件“Scenario_307.01_Refractive_Top_Hat_Beam_Shaper_1”中。 qP{/[uj[K  
     lrnyk(M}Q.  
    2rmSo&3@s  
    wSb 1"a  
       U Z.=aQ}M  
    會話編輯器產(chǎn)生一個光學(xué)流程圖，其中包括一個高斯平面光源，一個光學(xué)界面序列元件用于光束整形器的建模，另外還有一個衍射光學(xué)優(yōu)化函數(shù)探測器用于分析所產(chǎn)生的高帽質(zhì)量。 /GIxR6i  
     (Q%'N3gk  
    T?:glp[4I  
    對話編輯器通過幾何光學(xué)分析方法計算整形器表面面形。優(yōu)化函數(shù)：SNR：22dB；效率：90%。SNR比較低，因為高帽的邊緣寬度比較小。 ojQI7 Uhw  
     _7IKzUn9g[  
    j{Hao\F8  
    參數(shù)優(yōu)化器可以提升高帽的SNR。特別的，它可以減小高帽的邊緣寬度，這是因為基于場追跡技術(shù)允許考慮衍射，干涉和像差。 zXv3:uRp.  
    :> D[n1v  
    優(yōu)化文件被儲存在文件“Scenario_307.01_Refractive_Top_Hat_Beam_Shaper_2”中。 bA\<.d  
    ?"zY" *>4  
    [ j3&/  
    vr0WS3  
    參數(shù)優(yōu)化器需要在效率和SNR之間轉(zhuǎn)換。因為效率很好時，對在通用優(yōu)化函數(shù)中的SNR的沖擊會增加。 6T+FH;h  
    'a$Gv&fu  
    e?_@aa9~@{  
    .u:81I=w(  
    下山單一算法被用來局部優(yōu)化。 RE =`  
    :!5IW?2  
    M&N B/  
    優(yōu)化后的高帽質(zhì)量：SNR：39Db,效率：91%。SNR顯著增加。 Q2 zjZC*'%  
    @fs`=lL/  
    w=j  
    I4i2+ *l}  
    優(yōu)化后的光路流程圖存儲在“Scenario_307.01_Refractive_Top_Hat_Beam_Shaper_3”中。高帽靠近光軸的部分中仍然包含少量的一致性錯誤，因為整個高帽面形都參與優(yōu)化。第二衍射光學(xué)優(yōu)化函數(shù)探測器用來計算高帽中心區(qū)域的一致性錯誤，這樣可以進(jìn)一步提高光束質(zhì)量，并在整形和靠近光軸處的一致性錯誤之間找到一種折中的辦法。 Gp4A.\7  
    結(jié)論： 58%#DX34M  
    VirtualLabTM允許折射光束整形系統(tǒng)的參數(shù)優(yōu)化。 >=UF-xk;  
    模擬和優(yōu)化考慮了衍射，干涉和像差效應(yīng)。 si&S%4(  
    信噪比和轉(zhuǎn)化效率優(yōu)化函數(shù)能夠被用于評估系統(tǒng)質(zhì)量。 Zm=(+ f  
    QQ：2284816954 備注：光學(xué)     OR}c)|1  
     
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