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案例307.01:用于圓形高帽整形的折射光束整形元件的參數(shù)優(yōu)化 }?Yr>ZRi 這個(gè)案例說(shuō)明了通過(guò)折射光束整形編輯器設(shè)置一個(gè)光束整形系統(tǒng)。所得到的系統(tǒng)可以通過(guò)VirtualLabTM的參數(shù)優(yōu)化來(lái)提升整個(gè)系統(tǒng)的性能。 ftI+#0?[! 關(guān)鍵詞:參數(shù)優(yōu)化,透鏡系統(tǒng),光束整形,高帽,折射光束整形元件 8KL_PwRX_f 所需工具箱:基本工具箱 ;ow~vO,x 相關(guān)應(yīng)用:101.01,100.01,284.01 ,SE$Rh 相關(guān)教程和技術(shù)說(shuō)明:Tutorial101.01,TN.021 H2FFw-xW 建模任務(wù) _:fO)gs|1 系統(tǒng)建立會(huì)話編輯 kUaGok? _WjETyh
[H 折射光束整形編輯器幫助建立一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的光束整形系統(tǒng)。需要定義入射光束參數(shù)、光學(xué)結(jié)構(gòu)參數(shù)和輸出場(chǎng)參數(shù)。編輯器中所有參數(shù)被儲(chǔ)存在文件“Scenario_307.01_Refractive_Top_Hat_Beam_Shaper_1”中。 lu@>?,< ]ZryY
EB afP&+ 5t@O |q.:hWYFpM r~D~7MNl 會(huì)話編輯器產(chǎn)生一個(gè)光學(xué)流程圖,其中包括一個(gè)高斯平面光源,一個(gè)光學(xué)界面序列元件用于光束整形器的建模,另外還有一個(gè)衍射光學(xué)優(yōu)化函數(shù)探測(cè)器用于分析所產(chǎn)生的高帽質(zhì)量。 8HRPJSO~g >$S,>d_k` ,b.4uJg' 對(duì)話編輯器通過(guò)幾何光學(xué)分析方法計(jì)算整形器表面面形。優(yōu)化函數(shù):SNR:22dB;效率:90%。SNR比較低,因?yàn)楦呙钡倪吘墝挾缺容^小。 CAo )v,f )T};Q: %[\Ft 參數(shù)優(yōu)化器可以提升高帽的SNR。特別的,它可以減小高帽的邊緣寬度,這是因?yàn)榛趫?chǎng)追跡技術(shù)允許考慮衍射,干涉和像差。 Wru
Fp 5c}9 優(yōu)化文件被儲(chǔ)存在文件“Scenario_307.01_Refractive_Top_Hat_Beam_Shaper_2”中。 h@m n
GE PVkN3J /@nRL 64\5v?C 參數(shù)優(yōu)化器需要在效率和SNR之間轉(zhuǎn)換。因?yàn)樾屎芎脮r(shí),對(duì)在通用優(yōu)化函數(shù)中的SNR的沖擊會(huì)增加。 #G ,
*j <%3SI. nwZr3r D"] [&m 下山單一算法被用來(lái)局部?jī)?yōu)化。 q[|`&6B cVHE}0Xd( M}oFn}-T9a 優(yōu)化后的高帽質(zhì)量:SNR:39Db,效率:91%。SNR顯著增加。 2bn@:71` % 6hw Rn~Xu)@e T;[c<gc/ 優(yōu)化后的光路流程圖存儲(chǔ)在“Scenario_307.01_Refractive_Top_Hat_Beam_Shaper_3”中。高帽靠近光軸的部分中仍然包含少量的一致性錯(cuò)誤,因?yàn)檎麄(gè)高帽面形都參與優(yōu)化。第二衍射光學(xué)優(yōu)化函數(shù)探測(cè)器用來(lái)計(jì)算高帽中心區(qū)域的一致性錯(cuò)誤,這樣可以進(jìn)一步提高光束質(zhì)量,并在整形和靠近光軸處的一致性錯(cuò)誤之間找到一種折中的辦法。 C8W`Oly:] 結(jié)論: SX=0f^ VirtualLabTM允許折射光束整形系統(tǒng)的參數(shù)優(yōu)化。 ,nChwEn 模擬和優(yōu)化考慮了衍射,干涉和像差效應(yīng)。 f~"
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