|
|
為了方便大家精確主攻學(xué)某一部分的光學(xué)雜散光的知識(shí)，武漢墨光為此開(kāi)展不同時(shí)間段，不同內(nèi)容課程，此次課程分為基礎(chǔ)、散射、鬼像、衍射四場(chǎng)培訓(xùn)，感興趣小伙伴可以根據(jù)自己的需求選擇上課，以下是四場(chǎng)課程內(nèi)容大綱： <! *O[0s 第一場(chǎng)：基礎(chǔ)（9月27日） G*-7}7OAs 1. 雜散光術(shù)語(yǔ)； Zf S" 3. 雜散光成因； M{=p0?X 4. 雜散光影響、雜散光控制；
=A_{U (> 5. 雜散光分析、評(píng)價(jià)方法、分析軟件對(duì)比； PpSQf14, 6. ASAP 雜散光分析流程、步驟。 3=0b "ER= c3 t
DtZ7UX\P 第二場(chǎng)：散射（10月13日） WpkCF p 1. 雜散光特性、散射模型； d1NKVMeWr 2. 消光漆/表面處理； yJ(ITJE_Z 3. 光學(xué)表面污染； E<
pO!P 4. 散射特性測(cè)量?jī)x對(duì)比、重點(diǎn)區(qū)域采樣； S@ItgG?X 5. 散射特征測(cè)試介紹、PST 測(cè)試介紹 < [17&F0 6. 雜散光計(jì)算器、擴(kuò)展面源雜散光分析； 5X^`qUSv 7. 練習(xí)1-找關(guān)鍵和被照表面； D e$K 8. 練習(xí)2-散射模型擬合。 JaN53,&< ?zYR;r2'b)
#BI6+rfv| 第三場(chǎng)：鬼像（10月28日） wFJ *2W: 1.鬼像分析、光學(xué)設(shè)計(jì)中的雜散光控制； Wa iM\h?=# 2. 練習(xí)1-鬼像分析； (cp$poo 3. 練習(xí)2-重點(diǎn)區(qū)域位置和大小計(jì)算； OjK+`D_C 4. 練習(xí)3-雜散光路徑分析; p(y HB([8 5. 練習(xí)4-紅外系統(tǒng)自身熱輻射分析。
H$,wg!kY! QQ9 9sy
bGi k~ 第四場(chǎng)：衍射（11月12日 |e2s{J2 1. 衍射雜散光； tU-jtJ 2. 輻射度學(xué)基礎(chǔ)； >6'brb 3. 練習(xí)1-孔徑衍射; pQ`S%]k.< 4. 練習(xí)2-大角度衍射分析； zKf0 :X 5. 練習(xí)3-日冕儀雜散光分析。 (V`ddP- OuB [[L
raZ0B,;eFu 培訓(xùn)說(shuō)明 De49!{\a 四場(chǎng)培訓(xùn)都為線(xiàn)上直播培訓(xùn)，不同場(chǎng)次，不同內(nèi)容課程培訓(xùn)內(nèi)容作業(yè)練習(xí)跟蹤，老師答疑每場(chǎng)培訓(xùn)結(jié)束后支持1個(gè)月錄播回放觀(guān)看 .Txwp?}; 1. 培訓(xùn)方安裝最新正版軟件（僅限培訓(xùn)期間使用）。2. 報(bào)名兩場(chǎng)及以上者可以獲得包郵贈(zèng)送配套教材一本《雜散光抑制設(shè)計(jì)與分析》一本。3. 為保證課程質(zhì)量，課程均采用小班授課模式。 $-n_$jLY
#aadnbf 舉辦單位：武漢墨光科技有限公司 bhCAx W 培訓(xùn)日期： ?1H>k<Jp 第一場(chǎng)：2021年9月27日 t
|
