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內(nèi)容簡介： FL {$9o\@
g/ 4ipcG;N 1.在VirtualLab中如何進(jìn)行結(jié)構(gòu)設(shè)計； \ZtKaEXnx
J(: y-U 2.在VirtualLab中如何導(dǎo)入和導(dǎo)出加工數(shù)據(jù)。 U1W8f|u
n%6ba77 結(jié)構(gòu)設(shè)計 xpp>5d
! 1) 點(diǎn)擊 ，打開示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 7Bym?
fXe$Ug|5a sDB,+1"Y$ 2) 該示例文件包含處處振幅為1的純粹的相位分布，默認(rèn)為振幅視圖. 點(diǎn)擊 ，將默認(rèn)的振幅視圖轉(zhuǎn)換為相位視圖，點(diǎn)擊“結(jié)構(gòu)設(shè)計(Structure Design)”開始設(shè)計可產(chǎn)生該相位分布的對應(yīng)結(jié)構(gòu) R2A#2{+H
\30rF]F`l FR']Rj 3) 進(jìn)入(基于薄元近似)的純相位透射結(jié)構(gòu)設(shè)計系統(tǒng)窗口 bao"iv~z
z?@N+||,. 目標(biāo)(Target)標(biāo)簽，可以選擇將設(shè)計好的結(jié)構(gòu)設(shè)計元件放在新的LPD中還是已有的LPD中 F_Gc_eT N F,<^ u 光學(xué)設(shè)置(Optical Setup)標(biāo)簽，在此標(biāo)簽中選擇模式為透明板的高度輪廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可選擇基板介質(zhì)(Substrate Medium)和元件周圍的介質(zhì)(Surrounding Medium)，同時可以確定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波長（Wavelength）。 F/cA tT.M?
:Y|[?; W9QVfe#s 光學(xué)界面參數(shù)(Interface Parameters)標(biāo)簽，在相位展開模式(Unwrapping Mode)中選擇不展開(None)，以及不進(jìn)行強(qiáng)制分層(Enforce Quantization),即不產(chǎn)生離散界面，并選擇像素化的高度輪廓（最臨近點(diǎn)插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]對取樣光學(xué)界面進(jìn)行插值 [a_o 3 =6
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