-
UID：317649
-
- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2025-01-11
- 在線時間1643小時
-
-
訪問TA的空間加好友用道具
|
請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個面的光均勻度)？LGP上會印刷光學(xué)級油墨點(Pattern)，我們會控制Pattern直徑的大小，來控制整個背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？ Ad_h K O
eng'X -x
Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 U>N1Od4vTO
T_4/C2
如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點 ISvpQ 3{)s 4 ^:=xL g}c~
|
