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    [分享]光學(xué)仿真軟件FRED應(yīng)用于側(cè)入光式的背光模塊 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-09-24
    請(qǐng)問(wèn)FRED這套軟件針對(duì)一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過(guò)LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個(gè)面的光均勻度)？LGP上會(huì)印刷光學(xué)級(jí)油墨點(diǎn)(Pattern)，我們會(huì)控制Pattern直徑的大小，來(lái)控制整個(gè)背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？ nbSu|sX~r5  
    {3\{aZ8)  
    Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 RVa{%   
    $WZHkV  
    如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點(diǎn)     5OHF=wh  
    $R/@%U)-o  
    :X#'E Lo|  
    <l^#FH  
    在FRED可以設(shè)定散射表面，而油墨本身就是一種散射表面，如下 OG2&=~hOz-  
    >S HW  
    wy# 5p]!u  
    r_M5:Rz  
    光線(xiàn)追跡： *vIC9./  
    ug9]^p/)^  
    \%]!/&>{6  
    也可以加上BEF片的模擬     lxOUV?