《光學(xué)光刻和極紫外光刻》

發(fā)布：cyqdesign 2023-04-12 19:25 閱讀：4242
《光學(xué)光刻和極紫外光刻》是一本最新的光刻技術(shù)專著，內(nèi)容涉及該領(lǐng)域的各個重要方面。在介紹光刻技術(shù)應(yīng)用上，涵蓋了全面又豐富的內(nèi)容；在論述光刻技術(shù)的物理機(jī)制和數(shù)學(xué)模型時，采用了完整而不繁瑣的方法，增加了可讀性。本書在系統(tǒng)地闡述了光學(xué)光刻技術(shù)的基本內(nèi)容后，還專門開辟章節(jié)，介紹了最先進(jìn)的極紫外光刻技術(shù)的特點(diǎn)和難點(diǎn)，揭示了極紫外光刻的技術(shù)奧秘。本書具有全面、完整、翔實(shí)和新穎的特點(diǎn)，它凝聚了作者三十多年光刻領(lǐng)域科研和教學(xué)的精華。 z<ptrH  
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第1章光刻工藝概述 N-]h+Cnyu  
1.1微型化：　從微電子到納米技術(shù)_1 &9, 6<bToP  
1.2光刻技術(shù)的發(fā)展史_3 QL"fC;xUn,  
1.3投影光刻機(jī)的空間成像_5 iW+ZI6@  
1.4光刻膠工藝_10 w '~f Z*  
1.5光刻工藝特性_12 0Q_AF`"  
1.6小結(jié)_18 F'*y2FC  
參考文獻(xiàn)_18 Ti#2D3  
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第2章投影光刻的成像原理 zPWG^  
2.1投影光刻機(jī)_20 x,@cU}D  
2.2成像理論_21 s[nXr   
2.2.1傅里葉光學(xué)描述_21 #,Fk  
2.2.2傾斜照明與部分相干成像_26 <`9Q{~*=t  
2.2.3其他成像仿真方法_30 D@!`b6  
2.3阿貝瑞利準(zhǔn)則及其影響_30 -wvrc3F  
2.3.1分辨率極限和焦深_31 R"];`F(#  
2.3.2影響_36 tk|Ew!M:  
2.4小結(jié)_39 yDWzsA/X  
參考文獻(xiàn)_39 {1'XS,2  
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