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    [技術(shù)]JCMsuite應(yīng)用:平面波入射非周期結(jié)構(gòu)中的近場(chǎng)分布 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-11-22
    教程示例遵循P. Lalanne等人[1]研究的基準(zhǔn)問(wèn)題設(shè)置[2]。同時(shí)演示了相同設(shè)置下的FEM性能;鶞(zhǔn)問(wèn)題包括計(jì)算由平面波入射的孤立(即非周期)模式中的近場(chǎng)。該幾何結(jié)構(gòu)由基板上銀膜中的孤立亞波長(zhǎng)狹縫和銀膜中相鄰的平行凹槽組成。平面波垂直入射該裝置,并具有平面內(nèi)電場(chǎng)極化(分別為面外磁場(chǎng)極化)。通過(guò)狹縫傳輸?shù)轿挥讵M縫下方特定距離的探測(cè)器區(qū)域的光的能量通量被檢測(cè),并歸一化為通過(guò)狹縫的能量通量,在不存在凹槽的第二次模擬中計(jì)算。由于幾何、光源材料的特性,等離子體效應(yīng)導(dǎo)致了歸一化透射對(duì)物理參數(shù)的非常關(guān)鍵的依賴。這使得標(biāo)準(zhǔn)化傳輸?shù)臏?zhǔn)確計(jì)算成為具有挑戰(zhàn)性的基準(zhǔn)問(wèn)題。 w