比亞迪“氧化鋯光學(xué)鍍膜及制備方法與應(yīng)用和減反射膜”專利公布

據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，比亞迪股份有限公司申請一項名為“氧化鋯光學(xué)鍍膜及制備方法與應(yīng)用和減反射膜”，公開號CN117660890A，申請日期為2022年8月。

專利摘要顯示，本發(fā)明涉及光學(xué)鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種氧化鋯光學(xué)鍍膜及制備方法與應(yīng)用和減反射膜。所述氧化鋯光學(xué)鍍膜的厚度為1‑1000nm，密度為5.99‑6.23g/cm³，在波長550nm條件下的折射率≥2.1。制備方法包括：（1）對氧化鋯材料進(jìn)行熱蒸鍍處理，得到附著在基材表面的氧化鋯預(yù)鍍膜；（2）在離子轟擊存在下，將含水蒸氣的氣體與所述氧化鋯預(yù)鍍膜進(jìn)行接觸，對所述氧化鋯預(yù)鍍膜進(jìn)行退火處理，得到氧化鋯光學(xué)鍍膜。相較于常規(guī)氧化鋯薄膜，本發(fā)明提供的氧化鋯光學(xué)鍍膜具有更高的折射率，以及低消光系數(shù)，兼具優(yōu)異的光學(xué)性能、強(qiáng)度性能和抗紫外線性能，進(jìn)而可與低折射率的膜層共同制備成具有優(yōu)異光學(xué)性能和強(qiáng)度性能的減反射膜。

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