膜厚儀的測(cè)量
原理主要基于
磁感應(yīng)和
電渦流原理。分為手持式和臺(tái)式二種,手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀,電渦流鍍層測(cè)厚儀,熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時(shí),利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小,來(lái)表示其覆層厚度。
qEB]Tj e[ ;PhX[y^* 對(duì)于磁感應(yīng)原理的膜厚儀,其測(cè)量過(guò)程是通過(guò)測(cè)頭將磁場(chǎng)引入被測(cè)物體。當(dāng)測(cè)頭靠近被測(cè)物體時(shí),磁場(chǎng)會(huì)經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層并流入鐵磁基體。覆層的厚度與磁通量的大小和磁阻的變化密切相關(guān)。具體來(lái)說(shuō),覆層越厚,磁阻越大,磁通量越小。通過(guò)測(cè)量磁通量或磁阻的大小,膜厚儀能夠準(zhǔn)確地確定覆層的厚度。這種測(cè)量方式主要適用于鋼鐵等導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度的測(cè)量,如油漆層、瓷、搪瓷防護(hù)層等。
0x8aKq\' oS_<;Fj 而電渦流原理的膜厚儀則是利用高頻交流信號(hào)在測(cè)頭線圈中產(chǎn)生電磁場(chǎng)。當(dāng)測(cè)頭靠近導(dǎo)電基體時(shí),會(huì)在其中形成渦流。渦流的大小與測(cè)頭離導(dǎo)電基體的距離成反比,即距離越近,渦流越大,反射阻抗也越大。這種反饋?zhàn)饔昧靠梢杂脕?lái)表征測(cè)頭與導(dǎo)電基體之間距離的大小,即導(dǎo)電基體上非導(dǎo)電覆層的厚度。因此,通過(guò)測(cè)量反射阻抗或渦流的大小,電渦流膜厚儀能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)非鐵磁金屬基材上的覆層厚度的測(cè)量。