一.光刻技術(shù)簡介
"QSmxr 光刻是在集成電路制造過程中非常重要的步驟，是制造
芯片的核心設(shè)備。
nl<TM96 芯片的復(fù)雜細(xì)微三維結(jié)構(gòu)就是通過光刻機(jī)把掩膜的圖形轉(zhuǎn)印到光刻膠上，再通過刻蝕工藝轉(zhuǎn)移到硅片上。
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二.光刻鏡頭的概述
4 2$ pvw< 整個(gè)集成電路制造過程中，光刻的步驟需要重復(fù)幾十次。
3fGL(5|_ 光刻技術(shù)水平限制了集成電路性能提升和關(guān)鍵尺寸的進(jìn)一步減小。
Qe4O N3X! 光刻工藝的核心是對準(zhǔn)和曝光，都是通過光刻鏡頭實(shí)現(xiàn)的。
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