一種高增益低散斑對比度菲涅爾光學屏及其制備方法

根據(jù)國家知識產權局公告，四川長虹新獲得一項發(fā)明專利授權，專利名為“一種高增益低散斑對比度菲涅爾光學屏及其制備方法”，專利申請?zhí)枮?CN202211279501.9，授權日為 2024年7月26日。

專利摘要：本發(fā)明公開了一種高增益低散斑對比度菲涅爾光學屏及其制備方法，包括依次設置的菲涅爾基材層、菲涅爾功能層、菲涅爾光學微結構層和菲涅爾反射層，菲涅爾基材層 A 面的表面粗糙度在 50nm～200nm 范圍內；菲涅爾功能層內設有不同粒徑和不同表面粗糙度的光學粒子；菲涅爾光學微結構層由若干個光學微結構成排設置而成，且若干個光學微結構的節(jié)距從下至上逐漸縮�。环颇鶢柟鈱W微結構層與菲涅爾反射層相嵌合。本發(fā)明利用激光相干性及光學粒子擴散理論分析，降低菲涅爾基材層表面的粗糙度、增加不同功能之間折射率插值，有效提高菲涅爾光學屏增益、降低菲涅爾散斑對比度；通過底角 θ 與節(jié)距 D 的搭配，大幅度提高光能量利用率。

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