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[討論]離子源充氧與充氬有何分別？ [復(fù)制鏈接]

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離線ken_jinyan1

技術(shù)員

發(fā)帖: 232

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只看該作者 10樓發(fā)表于: 2013-01-28

我們公司的GENER1300 配的是霍爾的離子源。廠家調(diào)試的時(shí)候用的是O2，
說的是氧氣和氬氣都是一樣的。氧氣流量50，氬氣流量30SCCM，我想問一下
離子源對(duì)膜料折射率是否有影響。

離線alex_xie

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 11樓發(fā)表于: 2013-01-30

使用氬氣，鍍出來的膜層致密性會(huì)好一點(diǎn)，可以氧氣氬氣一起用

離線flyinlove79

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只看該作者 12樓發(fā)表于: 2013-02-02

熱心助人，鼓勵(lì)！

離線ken_jinyan1

技術(shù)員

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只看該作者 13樓發(fā)表于: 2013-02-19

但是廠家的工程師和我說MGF2不能用離子源，不知道原因。
如果不能用的話，還怎么冷鍍膜呢？

離線a060103112

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 14樓發(fā)表于: 2013-02-27

回 jiayuch 的帖子

jiayuch:如果鍍得是氟化鎂就用氬氣嗎 (2007-04-22 16:21) :Z R5<Y>