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    [產(chǎn)品]《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》（第二版 精裝） [復(fù)制鏈接]

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    內(nèi)容簡介 )kJH5/  
    Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面，其介紹涵蓋了軟件的方方面面，能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專業(yè)書籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。 ?~QIALA  
    《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié)，結(jié)合當(dāng)前市場占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實(shí)用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法，還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問題，如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合，從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來，對實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議，以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。 *E~VKx1  
    薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣，書中并附設(shè)計(jì)光盤和參考文獻(xiàn)，有興趣者可依此深入研究，為精準(zhǔn)起見，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助，通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限，書中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免，本書若有不周之處，尚請讀者不吝賜教。 $) 5Bf3P0  
    zj|/ CxV  
    訊技科技股份有限公司
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    cM_ Fp  
    目錄 oQ7]= |  
    Preface 1 gLSA!#[ h  
    內(nèi)容簡介 2 6st^4S5  
    目錄 i L@^~N$G&u  
    1  引言 1 e\b`n}nC  
    2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 ItX5JV)  
    2.1  一般規(guī)則 2 $oLU; q%  
    2.2  正交入射規(guī)則 3 ?QA\G6i4  
    2.3  斜入射規(guī)則 6 M- 0i7%  
    2.4  精確計(jì)算 7 a? R[J==  
    2.5  相干性 8 i\H+X   
    2.6 參考文獻(xiàn) 10 S }>n1F_  
    3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 Fn^C{p^  
    4  Essential Macleod的特點(diǎn) 32 n tP|\E  
    4.1  容量和局限性 33 |7^^*UzSK:  
    4.2  程序在哪里？ 33 dS`Bk6 Y  
    4.3  數(shù)據(jù)文件 35 = zl= SLe  
    4.4  設(shè)計(jì)規(guī)則 35 QI_59f>  
    4.5  材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 G5tday~3  
    4.5.1材料損失 38 1 11D3  
    4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 fB+b}aoV  
    4.5.2 材料庫 41 @S 6u9v  
    4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 )nu~9km3  
    4.6  常用單位 43 f '6|OsVQ  
    4.7  插值和外推法 46 1IgHc.s  
    4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 50 = c~I .  
    4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 9B +wYJp  
    4.10  文檔的一般編輯規(guī)則 55 ,eQ[Fi!!  
    4.11 撤銷和重做 56 9B)(>~q  
    4.12  設(shè)計(jì)文檔 57 A.Bk/N1G  
    4.10.1  公式 58 &gc `<kLu  
    4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 +@VYs*&&  
    4.10.3  沉積密度 59 r?l;I3~  
    4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 P=H+ #  
    4.10.5  漸變折射率和散射層 60 CDp8)=WJFF  
    4.10.4  性能 61 1'G8o=~  
    4.10.5  保存設(shè)計(jì)和性能 64 k*-NsNPw$  
    4.10.6  默認(rèn)設(shè)計(jì) 64 d \>2  
    4.11  圖表 64 :Y)to/h  
    4.11.1  合并曲線圖 67 +ySY>`1k~  
    4.11.2  自適應(yīng)繪制 68 Napf"Av  
    4.11.3  動(dòng)態(tài)繪圖 68 Ak~4|w-  
    4.11.4  3D繪圖 69 2:$ k  
    4.12  導(dǎo)入和導(dǎo)出 73 s%;<O:x8o  
    4.12.1  剪貼板 73 @<_`2eW'/R  
    4.12.2  不通過剪貼板導(dǎo)入 76 Qrz4}0  
    4.12.3  不通過剪貼板導(dǎo)出 76 J -Qh/d%]  
    4.13  背景 77 qvt-  
    4.14  擴(kuò)展公式-生成設(shè)計(jì)(Generate Design) 80