Zemax光學(xué)設(shè)計(jì)從基礎(chǔ)到實(shí)踐本書系統(tǒng)講解了利用Zemax 2023進(jìn)行光學(xué)設(shè)計(jì)和仿真分析的各種方法和技巧,主要內(nèi)容包括光學(xué)設(shè)計(jì)基礎(chǔ)、認(rèn)識Ansys Zemax OpticStudio、初識鏡頭數(shù)據(jù)編輯器、光學(xué)成像鏡頭設(shè)計(jì)、鏡頭編輯高級操作、光學(xué)系統(tǒng)分析、非序列模式設(shè)計(jì)、幾何光學(xué)像質(zhì)評價、物理光學(xué)像質(zhì)評價、光學(xué)系統(tǒng)的優(yōu)化、光學(xué)系統(tǒng)公差分析和光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)實(shí)例等。本書內(nèi)容全面實(shí)用,循序漸進(jìn),實(shí)例豐富,且提供全部實(shí)例源文件,方便讀者上手實(shí)踐。同時,重點(diǎn)實(shí)例配套視頻講解,掃描書中相應(yīng)的二維碼,即可邊學(xué)邊看,學(xué)習(xí)更加高效。本書非常適合從事光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)、仿真與分析的技術(shù)人員自學(xué)使用,也可用作高等院校相關(guān)專業(yè)的教材及參考書。 目錄 第1章 光學(xué)設(shè)計(jì)基礎(chǔ) 001 1.1 光學(xué)系統(tǒng)基礎(chǔ) 002 1.1.1 光學(xué)系統(tǒng)中的概念 002 1.1.2 理想光學(xué)系統(tǒng) 004 1.1.3 近軸系統(tǒng) 005 1.2 光學(xué)設(shè)計(jì)概述 006 1.2.1 光學(xué)設(shè)計(jì)基本原理 006 1.2.2 光學(xué)設(shè)計(jì)的具體步驟 007 1.2.3 光學(xué)設(shè)計(jì)軟件 007 1.3 Ansys Zemax簡介 009 1.3.1 Ansys Zemax 軟件分類 009 1.3.2 Ansys Zemax的功能 011 1.3.3 啟動Ansys Zemax OpticStudio 2023 012 1.3.4 切換語言 013 1.4 Ansys Zemax OpticStudio的幫助系統(tǒng) 014 1.4.1 使用目錄和索引查找聯(lián)機(jī)幫助 015 1.4.2 使用命令查找聯(lián)機(jī)幫助 017 1.4.3 使用網(wǎng)絡(luò)資源 017 1.4.4 幫助工具 018 第2章 認(rèn)識Ansys Zemax OpticStudio 019 2.1 Ansys Zemax OpticStudio用戶界面 020 2.2 編輯器窗口 023 2.2.1 鏡頭數(shù)據(jù)編輯器 023 2.2.2 視場數(shù)據(jù)編輯器 024 2.2.3 窗口操作 027 2.3 文件操作與管理 029 2.3.1 新建項(xiàng)目 029 2.3.2 新建設(shè)計(jì) 030 2.3.3 打開項(xiàng)目 031 2.3.4 保存文件 032 2.3.5 關(guān)閉項(xiàng)目 033 2.3.6 文件存檔 033 2.3.7 文件導(dǎo)出 034 2.4 工作環(huán)境的設(shè)置 036 2.5 系統(tǒng)選項(xiàng)設(shè)置 037 2.5.1 設(shè)置系統(tǒng)孔徑 037 2.5.2 設(shè)置視場 040 2.5.3 設(shè)置波長 042 2.5.4 設(shè)置系統(tǒng)環(huán)境 044 2.5.5 設(shè)置偏振 044 2.5.6 設(shè)置高級選項(xiàng) 045 2.5.7 設(shè)置光線瞄準(zhǔn) 046 2.5.8 設(shè)置材料庫 048 2.5.9 設(shè)置標(biāo)題和注解 048 2.5.10 設(shè)置文件 049 2.5.11 設(shè)置單位 049 2.5.12 設(shè)置成本估計(jì) 050 2.5.13 設(shè)置非序列 051 2.5.14 實(shí)例:新建材料庫 051 第3章 初識鏡頭數(shù)據(jù)編輯器 055 3.1 鏡頭數(shù)據(jù)基本操作 056 3.1.1 單元格操作 056 3.1.2 輸入數(shù)據(jù) 057 3.1.3 行列操作 057 3.1.4 切換視圖顯示 059 3.1.5 輸入表面參數(shù) 060 3.2 鏡頭數(shù)據(jù)設(shè)置 061 3.2.1 表面類型設(shè)置 061 3.2.2 實(shí)例:切換雙折射透鏡光學(xué)系統(tǒng)表面 064 3.2.3 定義表面注釋 067 3.2.4 定義曲率半徑 067 3.2.5 設(shè)置厚度 068 3.2.6 選擇材料 074 3.2.7 實(shí)例:凸透鏡和凹透鏡系統(tǒng) 076 3.2.8 膜層設(shè)置 082 3.2.9 設(shè)置凈口徑 084 3.2.10 實(shí)例:設(shè)置凸凹透鏡系統(tǒng)表面孔徑 085 3.2.11 延伸區(qū)設(shè)置 086 3.2.12 機(jī)械半直徑 087 3.2.13 實(shí)例:二元面單透鏡系統(tǒng) 087 3.2.14 圓錐系數(shù)設(shè)置 091 3.2.15 TCE設(shè)置 092 第4章 光學(xué)成像鏡頭設(shè)計(jì) 094 4.1 光學(xué)成像系統(tǒng) 095 4.1.1 物體成像原理 095 4.1.2 光學(xué)透鏡 095 4.1.3 光闌 096 4.2 Zemax模型 098 4.2.1 序列模型 098 4.2.2 非序列模型 098 4.3 光線追跡 099 4.3.1 二維布局圖 099 4.3.2 三維布局圖 103 4.3.3 實(shí)例:平行光光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) 104 4.3.4 實(shí)例:雙折射透鏡光學(xué)系統(tǒng) 107 4.3.5 實(shí)體模型圖 110 4.3.6 CAD零件圖 112 4.3.7 實(shí)例:投影儀光學(xué)系統(tǒng) 112 第5章 鏡頭編輯高級操作 117 5.1 表面參數(shù)設(shè)置 118 5.1.1 設(shè)置繪圖屬性 118 5.1.2 設(shè)置通光孔徑 119 5.1.3 實(shí)例:設(shè)置凸凹透鏡系統(tǒng)表面參數(shù) 120 5.1.4 設(shè)置表面散射類型 122 5.1.5 設(shè)置表面傾斜和偏心 124 5.1.6 實(shí)例:玻璃透鏡系統(tǒng) 126 5.2 坐標(biāo)間斷 128 5.2.1 選擇坐標(biāo)間斷面 128 5.2.2 表面旋轉(zhuǎn)偏心 130 5.2.3 轉(zhuǎn)折反射鏡 132 5.2.4 實(shí)例:反射鏡光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) 132 5.3 表面轉(zhuǎn)換設(shè)置 134 5.3.1 坐標(biāo)系轉(zhuǎn)換 134 5.3.2 雙通系統(tǒng) 135 5.3.3 實(shí)例:玻璃透鏡雙通系統(tǒng)設(shè)計(jì) 136 5.3.4 復(fù)合表面 136 5.3.5 表面翻轉(zhuǎn) 138 5.3.6 轉(zhuǎn)換TrueFreeForm表面 138 5.3.7 改變焦距 139 5.3.8 實(shí)例:鏡頭組光學(xué)系統(tǒng) 139 5.4 多重結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) 143 5.4.1 多重結(jié)構(gòu)編輯器 143 5.4.2 操作數(shù)類型 145 5.4.3 實(shí)例:系統(tǒng)孔徑多重結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) 149 5.4.4 熱分析 151 5.4.5 共軛分析 152 5.4.6 實(shí)例:多重結(jié)構(gòu)共軛分析 152 第6章 光學(xué)系統(tǒng)分析 154 6.1 光線追跡分析 155 6.1.1 光線追跡過程 155 6.1.2 單光線追跡 156 6.1.3 光跡圖 156 6.1.4 基面數(shù)據(jù) 158 6.1.5 Y-Ybar 圖 159 6.1.6 漸暈圖 159 6.1.7 入射角 vs.像高 160 6.1.8 實(shí)例:平行光光學(xué)系統(tǒng)光線追跡 160 6.2 偏振與表面物理分析 163 6.2.1 偏振分析 163 6.2.2 表面分析 164 6.2.3 實(shí)例:不規(guī)則面光學(xué)系統(tǒng)表面分析 165 6.2.4 膜層分析 168 6.2.5 實(shí)例:屏蔽藍(lán)光光學(xué)系統(tǒng)分析 169 6.3 材料分析 172 6.3.1 色散圖 172 6.3.2 玻璃圖 172 6.3.3 無熱化玻璃圖 173 6.3.4 透過率曲線 173 6.4 輸出報告 174 6.4.1 表面數(shù)據(jù)報告 174 6.4.2 分類數(shù)據(jù)報告 175 6.4.3 實(shí)例:1/4玻板光學(xué)系統(tǒng)偏振分析 176 6.5 幾何像差分析 178 6.5.1 球差 178 6.5.2 實(shí)例:凸凹透鏡系統(tǒng)球差分析 179 6.5.3 彗差 179 6.5.4 實(shí)例:凸凹透鏡系統(tǒng)彗差分析 180 6.5.5 像散 181 6.5.6 實(shí)例:凸凹透鏡系統(tǒng)像散分析 181 6.5.7 場曲 184 6.5.8 實(shí)例:凸凹透鏡系統(tǒng)場曲分析 184 6.5.9 畸變 186 6.5.10 色差 186 6.5.11 實(shí)例:衍射光柵光學(xué)系統(tǒng)色差分析 186 第7章 非序列模式設(shè)計(jì) 190 7.1 非序列模式 191 7.1.1 非序列元件編輯器 191 7.1.2 布局圖顯示 193 7.1.3 實(shí)例:創(chuàng)建菲涅耳透鏡 194 7.2 物體編輯 203 7.2.1 物體編輯器 203 7.2.2 調(diào)整物體位置 205 7.2.3 陣列物體 206 7.2.4 實(shí)例:陣列透鏡 206 7.2.5 合并物體 210 7.2.6 創(chuàng)建多面體 211 7.2.7 實(shí)例:創(chuàng)建六角形透鏡 212 7.3 物體屬性設(shè)置 217 7.3.1 “類型”選項(xiàng)卡 217 7.3.2 “繪圖”選項(xiàng)卡 218 7.3.3 “光源”選項(xiàng)卡 219 7.3.4 “膜層/散射”選項(xiàng)卡 221 7.3.5 “散射路徑”選項(xiàng)卡 222 7.3.6 “體散射”選項(xiàng)卡 222 7.3.7 “折射率”選項(xiàng)卡 222 7.3.8 實(shí)例:環(huán)形鏡頭 223 7.4 探測器分析 227 7.4.1 探測器的形狀 227 7.4.2 探測器工具 228 7.4.3 探測器查看器 229 7.4.4 實(shí)例:GRIN透鏡光學(xué)系統(tǒng) 229 7.5 非序列光線追跡 236 7.5.1 非序列系統(tǒng)光線追跡方法 236 7.5.2 定義光源模型 237 7.5.3 光線追跡控制 239 7.5.4 Lightning追跡 240 7.5.5 特定光線比對 240 7.5.6 單光線追跡 241 7.5.7 實(shí)例:雙折射立方體成像系統(tǒng) 242 第8章 幾何光學(xué)像質(zhì)評價 249 8.1 幾何像差分析 250 8.1.1 光線像差圖 250 8.1.2 光程差圖 251 8.1.3 光瞳像差圖 252 8.1.4 全視場像差圖 252 8.1.5 場曲/畸變 253 8.1.6 網(wǎng)格畸變 255 8.1.7 實(shí)例:凸凹透鏡系統(tǒng)場曲顯示 255 8.1.8 軸向像差 256 8.1.9 垂軸色差 257 8.1.10 色焦移 258 8.1.11 實(shí)例:衍射光柵光學(xué)系統(tǒng)色差顯示 258 8.1.12 賽德爾系數(shù) 260 8.1.13 塞德爾圖 261 8.2 點(diǎn)列圖分析 262 8.2.1 標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)列圖 262 8.2.2 離焦點(diǎn)列圖 265 8.2.3 全視場點(diǎn)列圖 265 8.2.4 矩陣點(diǎn)列圖 266 8.2.5 實(shí)例:凸凹透鏡系統(tǒng)點(diǎn)列圖分析 267 8.3 波前差分析 268 8.3.1 波前圖 268 8.3.2 干涉圖 269 8.3.3 實(shí)例:凹凸透鏡系統(tǒng)球差顯示分析 271 8.3.4 傅科分析 273 8.3.5 對比度損失圖 274 8.3.6 Zernike系數(shù) 276 8.3.7 Zernike系數(shù)vs.視場 276 8.3.8 實(shí)例:凹凸透鏡系統(tǒng)球差定量分析 277 第9章 物理光學(xué)像質(zhì)評價 279 9.1 點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù) 280 9.1.1 FFT算法 280 9.1.2 惠更斯算法 283 9.2 MTF分析 284 9.2.1 FFT算法 284 9.2.2 惠更斯算法 287 9.2.3 高斯求積算法 288 9.2.4 實(shí)例:偶次非球面光學(xué)系統(tǒng) 289 9.3 RMS分析 292 9.3.1 RMS vs.視場 292 9.3.2 二維視場RMS圖 293 9.3.3 實(shí)例:衍射光柵光學(xué)系統(tǒng)RMS分析 294 9.4 能量集中度分析 296 9.4.1 衍射 296 9.4.2 幾何 297 9.4.3 幾何線/邊緣擴(kuò)散 298 9.4.4 擴(kuò)展光源 299 9.4.5 實(shí)例:雙折射透鏡光學(xué)系統(tǒng)能量集中度分析 299 9.5 圖像擴(kuò)展分析 300 9.5.1 圖像模擬 301 9.5.2 幾何圖像分析 302 9.5.3 幾何位圖圖像分析 304 9.5.4 部分相干圖像分析 305 9.5.5 擴(kuò)展圖像分析 306 9.5.6 相對照度分析 307 9.5.7 實(shí)例:光學(xué)系統(tǒng)圖形模擬分析 308 9.6 激光傳播 309 9.6.1 物理光學(xué)傳播分析 309 9.6.2 高斯光束 312 9.6.3 光纖耦合 314 9.6.4 實(shí)例:近軸面光學(xué)系統(tǒng)全面衍射光學(xué)分析 315 第10章 光學(xué)系統(tǒng)的優(yōu)化 317 10.1 光學(xué)系統(tǒng)優(yōu)化設(shè)計(jì)的過程 318 10.2 手動調(diào)整 318 10.2.1 快速聚焦 318 10.2.2 快速調(diào)整 319 10.2.3 滑塊控件 319 10.2.4 可視化優(yōu)化器 320 10.2.5 實(shí)例:不規(guī)則面光學(xué)系統(tǒng)手動調(diào)整 321 10.3 自動優(yōu)化 322 10.3.1 評價函數(shù)編輯器 322 10.3.2 評價函數(shù)操作數(shù) 323 10.3.3 優(yōu)化向?qū)?325 10.3.4 執(zhí)行優(yōu)化 327 10.3.5 實(shí)例:凹凸透鏡系統(tǒng)球差自動優(yōu)化 328 10.4 全局優(yōu)化 331 10.4.1 全局優(yōu)化 332 10.4.2 錘形優(yōu)化 332 10.4.3 玻璃替換模板 333 10.5 優(yōu)化工具 333 10.5.1 尋找很好非球面 333 10.5.2 非球面類型轉(zhuǎn)換 334 10.5.3 庫存鏡頭匹配 334 10.5.4 樣板匹配 335 10.5.5 樣板列表 336 第11章 光學(xué)系統(tǒng)公差分析 337 11.1 公差分析概述 338 11.2 公差分析方法 339 11.2.1 公差數(shù)據(jù)編輯器 339 11.2.2 公差分析向?qū)?340 11.2.3 執(zhí)行公差分析 342 11.2.4 實(shí)例:凹凸透鏡系統(tǒng)公差分析 345 11.3 快速公差分析 347 11.3.1 快速靈敏度分析 347 11.3.2 快速良率分析 347 11.3.3 實(shí)例:凹凸透鏡系統(tǒng)快速公差分析 348 11.4 公差數(shù)據(jù)可視化 349 11.4.1 公差數(shù)據(jù)查看器 349 11.4.2 直方圖分析 350 11.4.3 良率分析 351 11.5 加工圖紙與數(shù)據(jù)分析 351 11.5.1 ISO元件圖 352 11.5.2 Zemax元件制圖 352 11.5.3 實(shí)例:二元面系統(tǒng)光學(xué)加工圖 353 第12章 光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)實(shí)例 356 12.1 目鏡設(shè)計(jì) 357 12.1.1 定義初始結(jié)構(gòu) 357 12.1.2 球差顯示分析 360 12.1.3 球差定量分析 361 12.1.4 系統(tǒng)自動優(yōu)化 362 12.1.5 圖形模擬分析 364 12.2 光纖耦合光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) 365 12.2.1 初始結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) 366 12.2.2 光纖耦合 371 12.2.3 多重結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) 371 12.3 奧夫納中繼器光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) 372 12.3.1 定義初始結(jié)構(gòu) 373 12.3.2 系統(tǒng)優(yōu)化 375 12.3.3 波前數(shù)據(jù)分析 378 參考文獻(xiàn) 380 關(guān)鍵詞: ZEMAX光學(xué)設(shè)計(jì)
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