[分享]基底對光學(xué)薄膜弱吸收測量的影響 [復(fù)制鏈接]

基底對光學(xué)薄膜弱吸收測量的影響

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主要鍍膜材料及其性能和用途 ^':Az6Z  
名稱  　　折射率  　　透光范圍  　　蒸發(fā)溫度(℃)  　　　蒸發(fā)源  　　　　　　應(yīng)用 ` ,B&oV>  
三氧化二鋁  1.62/550nm  200~5000  2000-2200  　　　電子槍  　增透膜、多層膜 <lk_]+ XJ3  
氟化鈰  　　1.63/500nm  300~5000  1429  　　　鉬，鉭，電子槍  增透膜、多層膜 (qE*z  
氧化鈰  　2.35/500nm  400~16000  1950  　　　　　　電子槍  　　　增透膜 #8N9@  
冰晶石  　1.33/500nm  250~14000  1000  　鉬，鉭，電子槍  　　　　　增透膜 C*e)UPK`  
氧化鉿  　1.95/500nm  230~7000  2500  　　電子槍  　　　紫外-近紅外多層膜 kNX(@f  
透明導(dǎo)電膜料  2.0/500nm  400~800  1450  　電子槍，Al2O3  　透明導(dǎo)電膜 =4RBHe
8`  
氟化鈣  　1.23-1.42/550nm  150~12000  1280~1400  鉬，鉭，鎢  增透膜 B3 mD0  
氟化鎂  　1.38/550nm  130~7000  1300~1600  　 鉬，鉭，鎢  增透膜、多層膜 x6,kG  
氧化鎂  　　1.7/500nm  200~8000  2000  　 電子槍  　　　　多層膜 X@,xwsM%tb  
鋯鈦混合物  2.1/500nm  400~7000  2300  　鎢，電子槍  　　增透膜 _IAvFJI  
氧化鈧  1.89/500nm  250~5000  　2430 　　 電子槍  　　　 紫外多層膜 yFt'<{z[nL  
二氧化硅  1.45/500nm  200~2000  1600~2200  電子槍  　　多層膜 ulnG|3A9  
一氧化硅  1.55/550nm  600~8000  1200~1600  鉬，鉭，鎢  增透膜、保護(hù)膜 +C~,q{u  
五氧化二鉭  2.1/500nm  400~7000  1950  電子槍  增透膜 }2sc|K^  
一氧化鈦  2.35/500nm  400~12000  1700~2000  電子槍  多層膜、分光膜 l}>gG[q!  
二氧化鈦  2.35/500nm  400~12000  2200  電子槍  增透膜、多層膜 x\ :x`k@  
氧化釔  1.87/550nm  400~8000  2500  電子槍  增透膜、多層膜 G0sg\]  
氧化鋯  2.05/500nm  250~7000  2500  電子槍  增透膜、多層膜 LK8K=AA3P  
三氧化二鈦  2.35/500nm  400~12000  1800~2000  鉭，鎢電子槍  增透膜、多層膜 URW#nm?  
氟化鋇  1.4/10600nm  220~11000  1280  鉬，鉭，鉑  紫外-遠(yuǎn)紅外膜、多層膜、增透膜