[分享]基底對光學薄膜弱吸收測量的影響 [復制鏈接]

基底對光學薄膜弱吸收測量的影響

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主要鍍膜材料及其性能和用途 zI uJ-8T"  
名稱  　　折射率  　　透光范圍  　　蒸發(fā)溫度(℃)  　　　蒸發(fā)源  　　　　　　應用 {fM'6;ak  
三氧化二鋁  1.62/550nm  200~5000  2000-2200  　　　電子槍  　增透膜、多層膜 aO[w/cG
Q  
氟化鈰  　　1.63/500nm  300~5000  1429  　　　鉬，鉭，電子槍  增透膜、多層膜 S@tLCqV4  
氧化鈰  　2.35/500nm  400~16000  1950  　　　　　　電子槍  　　　增透膜 >6-
`}G+|  
冰晶石  　1.33/500nm  250~14000  1000  　鉬，鉭，電子槍  　　　　　增透膜 H41?/U,{  
氧化鉿  　1.95/500nm  230~7000  2500  　　電子槍  　　　紫外-近紅外多層膜 4"ZP 'I;  
透明導電膜料  2.0/500nm  400~800  1450  　電子槍，Al2O3  　透明導電膜 I 34>X`[o  
氟化鈣  　1.23-1.42/550nm  150~12000  1280~1400  鉬，鉭，鎢  增透膜 (mB&m@-N  
氟化鎂  　1.38/550nm  130~7000  1300~1600  　 鉬，鉭，鎢  增透膜、多層膜 MjRHA^b  
氧化鎂  　　1.7/500nm  200~8000  2000  　 電子槍  　　　　多層膜  /maJtX'  
鋯鈦混合物  2.1/500nm  400~7000  2300  　鎢，電子槍  　　增透膜 T763
:v  
氧化鈧  1.89/500nm  250~5000  　2430 　　 電子槍  　　　 紫外多層膜 ?$pCsBDo  
二氧化硅  1.45/500nm  200~2000  1600~2200  電子槍  　　多層膜 9=tIz  
一氧化硅  1.55/550nm  600~8000  1200~1600  鉬，鉭，鎢  增透膜、保護膜 ~8+ Zs
  
五氧化二鉭  2.1/500nm  400~7000  1950  電子槍  增透膜 y.k~Y0  
一氧化鈦  2.35/500nm  400~12000  1700~2000  電子槍  多層膜、分光膜 **CR} yV  
二氧化鈦  2.35/500nm  400~12000  2200  電子槍  增透膜、多層膜 1&OW4_  
氧化釔  1.87/550nm  400~8000  2500  電子槍  增透膜、多層膜 TX/Xt7#R:  
氧化鋯  2.05/500nm  250~7000  2500  電子槍  增透膜、多層膜 ejd(R+  
三氧化二鈦  2.35/500nm  400~12000  1800~2000  鉭，鎢電子槍  增透膜、多層膜 ~