[分享]基底對光學(xué)薄膜弱吸收測量的影響 [復(fù)制鏈接]

基底對光學(xué)薄膜弱吸收測量的影響

haODONGXI!!

主要鍍膜材料及其性能和用途 TN.rrop`#g  
名稱  　　折射率  　　透光范圍  　　蒸發(fā)溫度(℃)  　　　蒸發(fā)源  　　　　　　應(yīng)用 P'2Qen*  
三氧化二鋁  1.62/550nm  200~5000  2000-2200  　　　電子槍  　增透膜、多層膜 $k?>DP4  
氟化鈰  　　1.63/500nm  300~5000  1429  　　　鉬，鉭，電子槍  增透膜、多層膜 :0ep(<|;  
氧化鈰  　2.35/500nm  400~16000  1950  　　　　　　電子槍  　　　增透膜 . ^u,.  
冰晶石  　1.33/500nm  250~14000  1000  　鉬，鉭，電子槍  　　　　　增透膜 xmG<]WF>E  
氧化鉿  　1.95/500nm  230~7000  2500  　　電子槍  　　　紫外-近紅外多層膜 YN,A)w:]  
透明導(dǎo)電膜料  2.0/500nm  400~800  1450  　電子槍，Al2O3  　透明導(dǎo)電膜 ZEQ