光學薄膜設計軟件
Optilayer使用實例:設計和優(yōu)化示例
GHHErXT\a (89NK]2x 參數(shù)為:500-600nm AR QWM@500, 12L 基底:GLASS(1.52)
@<]xbWhuw U*ZP>Vv 層材料:MgF2(1.38),ZnS(2.3).
p[(VhbN x@+m_y 設計:同Evaluation過程基本一樣,區(qū)別在于多加入了設計目標Target的輸入.打開Datebase窗口并單擊Target,輸入設計目標500-600nm范圍的減反膜:
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